一种应力记忆技术的NMOS器件制作方法

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专利标题： 一种应力记忆技术的NMOS器件制作方法
专利标题（英）： Manufacturing method of NMOS (N-channel metal oxide semiconductor) device by stress memorization technique
申请号： CN201110112419.2

申请日： 2011-05-03
公开(公告)号： CN102768993B

公开(公告)日： 2014-12-10
发明人: 李凡 , 张海洋 , 黄怡
申请人： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址： 上海市浦东新区张江路18号
专利权人： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
当前专利权人： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
当前专利权人地址： 上海市浦东新区张江路18号
代理机构： 北京德琦知识产权代理有限公司
代理商 牛峥; 王丽琴
主分类号： H01L21/8238
IPC分类号： H01L21/8238

摘要：

本发明提供了一种应力记忆技术的NMOS器件制作方法，在晶片的器件面和背面沉积氮化硅层后，经过尖峰退火使氮化硅层对栅极拉应力后，在晶片背面的氮化硅层表面形成二氧化硅保护层，最后湿法刻蚀去除晶片器件面的氮化硅层。本发明提出方法在完全去除氮化硅层的同时减小晶片器件面硅衬底损伤的前提下，保护晶片背面的氮化硅层不被湿法刻蚀去除，具有制作成本低，有利于修复栅极电介质层完整性失效的优点。

公开/授权文献

CN102768993A 一种压变存储技术的NMOS器件制作方法公开/授权日：2012-11-07

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/70	.由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造（由预制电组件组成的组装件的制造入H05K3/00，H05K13/00）
H01L21/77	..在公共衬底中或上面形成的由许多固态元件或集成电路组成的器件的制造或处理（电可编程只读存储器或其多步骤的制造方法入H01L27/115）
H01L21/78	...把衬底连续地分成多个独立的器件（改变表面物理特性或者半导体形状的切割入H01L21/304）
H01L21/82	....制造器件，例如每一个由许多元件组成的集成电路
H01L21/822	.....衬底是采用硅工艺的半导体的（H01L21/8258优先）
H01L21/8232	......场效应工艺
H01L21/8234	.......MIS工艺
H01L21/8238	........互补场效应晶体管，例如CMOS