发明授权
- 专利标题: 一种超结纵向双扩散金属氧化物半导体管
- 专利标题(英): Super-junction vertical double-diffusion metal oxide semiconductor tube
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申请号: CN201210101012.4申请日: 2012-04-06
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公开(公告)号: CN102646710B公开(公告)日: 2014-08-27
- 发明人: 孙伟锋 , 祝靖 , 吴逸凡 , 钱钦松 , 陆生礼 , 时龙兴
- 申请人: 东南大学
- 申请人地址: 江苏省无锡市新区菱湖大道99号
- 专利权人: 东南大学
- 当前专利权人: 东南大学
- 当前专利权人地址: 江苏省无锡市新区菱湖大道99号
- 代理机构: 南京天翼专利代理有限责任公司
- 代理商 汤志武
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L29/423
摘要:
一种超结纵向双扩散金属氧化物半导体管,包括:兼做漏区的N型重掺杂硅衬底,在N型重掺杂硅衬底的下表面设置有漏极金属,在N型重掺杂硅衬底的上表面设有N型掺杂硅外延层,在N型掺杂硅外延层内设有间断不连续的P型掺杂柱状半导体区,在P型掺杂柱状半导体区上设有第一P型掺杂半导体区,且第一P型掺杂半导体区位于N型掺杂外延层内,在第一P型掺杂半导体区中设有第二P型掺杂半导体接触区和N型掺杂半导体源区,其特征在于,在N型重掺杂半导体源区上连接有源极金属,在第二P型重掺杂半导体接触区上连接有衬底金属,在源极金属与衬底金属的下方设有作为电阻的多晶硅,且多晶硅分别与源极金属与衬底金属连接,在衬底金属上连接有顶层金属。
公开/授权文献
- CN102646710A 一种超结纵向双扩散金属氧化物半导体管 公开/授权日:2012-08-22
IPC分类: