发明授权
- 专利标题： 掩膜板缺陷检测方法
- 专利标题（英）： Mask plate defect detection method
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申请号： CN201110386285.3申请日： 2011-11-28
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公开(公告)号： CN102411260B公开(公告)日： 2014-07-16
- 发明人: 朱骏 , 张旭昇
- 申请人： 上海华力微电子有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号
- 专利权人： 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人： 上海华力微电子有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号
- 代理机构： 隆天国际知识产权代理有限公司
- 代理商 吴世华; 张龙哺
- 主分类号： G03F1/72
- IPC分类号： G03F1/72
摘要：
本发明涉及一种掩膜板缺陷检测方法，包括如下步骤：将不同波长的光束投射到具有不同透光度图形区域的校准掩模板上，进行校准测试，建立基准数据库；将光束投射到待测掩膜板，测算该待测掩膜板对该光束的反射率、透射率中的至少一个；将测得的反射率、透射率信息对比基准数据，判定该待测掩膜板上是否存在缺陷。采用这种检测方法可以快速有效地检测掩膜板上的haze缺陷及细微有机物污染。
公开/授权文献
- CN102411260A 掩膜板缺陷检测方法 公开/授权日：2012-04-11
