发明授权
- 专利标题: 微孔抛光垫
- 专利标题(英): Microporous polishing pads
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申请号: CN201110093293.9申请日: 2003-05-21
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公开(公告)号: CN102189506B公开(公告)日: 2013-03-13
- 发明人: 阿巴尼什瓦·普拉萨德
- 申请人: 卡伯特微电子公司
- 申请人地址: 美国伊利诺伊州
- 专利权人: 卡伯特微电子公司
- 当前专利权人: CMC材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国伊利诺伊州
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 宋莉
- 优先权: 60/382,739 2002.05.23 US; 10/281,782 2002.10.28 US
- 分案原申请号: 038175835 2003.05.21
- 主分类号: B24D13/00
- IPC分类号: B24D13/00 ; B24D3/32 ; B24B39/00
摘要:
本发明涉及微孔抛光垫,更具体地说,本发明提供用于化学-机械抛光的包括多孔发泡体的抛光垫及其制造方法。一个具体实施方式中,该多孔发泡体平均孔径为50微米或以下,其中75%或以上的孔隙具有平均孔径20微米或以下的孔径。在一个具体实施方式中,多孔发泡体的平均孔径20微米或以下。又另一个具体实施方式中,该多孔发泡体具有多-模态孔径分布。该制造方法包括(a)使聚合物树脂与超临界气体结合产生单相溶液,及(b)从该单相溶液形成抛光垫,其中通过使气体经历高温及高压产生超临界气体。
公开/授权文献
- CN102189506A 微孔抛光垫 公开/授权日:2011-09-21