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发明授权
CN101866801B 等离子避电器插件 有权

  • 专利标题： 等离子避电器插件
  • 专利标题（英）： Plasma arrestor insert
  • 申请号： CN201010156439.5
    申请日： 2010-03-31
  • 公开(公告)号： CN101866801B
    公开(公告)日： 2012-11-28
  • 发明人: 基思·科门丹特
  • 申请人： 朗姆研究公司
  • 申请人地址： 美国加利福尼亚州
  • 专利权人： 朗姆研究公司
  • 当前专利权人： 朗姆研究公司
  • 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
  • 代理机构： 上海胜康律师事务所
  • 代理商 周文强; 李献忠
  • 优先权： 61/165,270 2009.03.31 US; 12/570,263 2009.09.30 US
  • 主分类号： H01J37/02
  • IPC分类号： H01J37/02
等离子避电器插件
摘要：
一种可用于室晶片处理系统的电介质避电器插件，该系统具有气体输入管线、避电器框架和晶片处理空间。该输入管线能够提供气体至该避电器框架。该避电器框架能够容置该电介质避电器插件。该电介质避电器插件包括气体入口部分、非直线通道和气体出口部分。该气体入口部分布置为从该输入管线接收气体。该非直线通道布置为将气体从该气体入口部分传输至该气体出口部分。该气体出口部分布置为将气体从该非直线通道传输至该晶片处理空间。
摘要（英）：

The present invention discloses a dielectric arrestor inserter which can be used for a lab-on-a-chip processing system. The system is provided with a gas input pipe, an arrestor frame and a wafer processing space. The input pipe can supply gas to the arrestor frame. The arrestor frame can accommodate the dielectric arrestor inserter. The dielectric arrestor inserter comprises a gas inlet part, a nonlinear channel and a gas outlet part. The gas inlet part is configured to receive gas from the input pipe. The nonlinear channel is configured to transmit the gas from the gas inlet part to the gasoutlet part. The gas outlet part is configured to transmit the gas from the nonlinear channel to the wafer processing space.

公开/授权文献
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