发明授权
- 专利标题: 制造半导体发光器件的方法
- 专利标题(英): Method of manufacturing semiconductor light emitting device
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申请号: CN201010121518.2申请日: 2010-02-20
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公开(公告)号: CN101807655B公开(公告)日: 2013-12-18
- 发明人: 郑畴溶
- 申请人: LG伊诺特有限公司
- 申请人地址: 韩国首尔
- 专利权人: LG伊诺特有限公司
- 当前专利权人: 苏州乐琻半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国首尔
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 顾晋伟; 王春伟
- 优先权: 10-2009-0013171 2009.02.17 KR
- 主分类号: H01L33/48
- IPC分类号: H01L33/48 ; H01L33/62
摘要:
本发明涉及制造半导体发光器件的方法。所述方法包括:在衬底上形成包括第一导电半导体层、有源层和第二导电半导体层的发光结构,在所述发光结构上形成电极层,在所述电极层上形成导电支撑构件,以及使所述导电支撑构件的顶表面平坦化。
公开/授权文献
- CN101807655A 制造半导体发光器件的方法 公开/授权日:2010-08-18
IPC分类: