发明授权
- 专利标题: 选择性电镀装置
- 专利标题(英): Selective plating device
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申请号: CN200910051853.7申请日: 2009-05-22
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公开(公告)号: CN101550574B公开(公告)日: 2012-03-14
- 发明人: 王振荣 , 吕海波 , 黄利松
- 申请人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 申请人地址: 上海市松江区文合路1268号
- 专利权人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市松江区文合路1268号
- 代理机构: 上海脱颖律师事务所
- 代理商 李强
- 主分类号: C25D5/02
- IPC分类号: C25D5/02 ; C25D17/02 ; C25D7/12
摘要:
本发明公开了一种选择性电镀装置,包括电镀液槽,电镀液槽内设置有阳极,其特征在于,还包括挂钩支撑框和两组以上的挂钩,所述的挂钩安装在挂钩支撑框上,两组以上的挂钩沿与电镀液液面平行的方向排列。本发明的有益效果为:使用方便,可减少电镀液的添加过程中的固体杂质,溢流出的电镀液可自动进入储液槽进行循环使用,可以仅对引线框架进行局部电镀,节省材料,至少可节省电镀材料25%以上,而且省去了后处理工艺,操作简便,结构简单,制造容易。
公开/授权文献
- CN101550574A 选择性电镀装置 公开/授权日:2009-10-07