发明授权
CN101362812B 抗反射性聚合物、抗反射性组成物及形成图案的方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 抗反射性聚合物、抗反射性组成物及形成图案的方法
- 专利标题（英）： Anti-reflective polymer, anti-reflective composition, and method for forming pattern using the same
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申请号： CN200810126685.9申请日： 2008-06-20
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公开(公告)号： CN101362812B公开(公告)日： 2012-06-13
- 发明人: 郑载昌 , 李晟求
- 申请人： 海力士半导体有限公司
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 海力士半导体有限公司
- 当前专利权人： 海力士半导体有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 顾红霞; 何胜勇
- 优先权： 10-2007-0079945 2007.08.09 KR
- 主分类号： C08F228/04
- IPC分类号： C08F228/04 ; C08L41/00 ; C08K5/42 ; G03F7/004 ; G03F7/20
摘要：
本发明公开一种抗反射性聚合物、抗反射性组成物及形成图案的方法，所述聚合物用于通过交联获得具有高折射率的抗反射膜。含有所述聚合物的所述抗反射性组成物特别适用于镶嵌工序及半导体器件制造过程中的使用ArF(193nm)的浸没式光刻工序。
公开/授权文献
- CN101362812A 抗反射性聚合物、抗反射性组成物及形成图案的方法 公开/授权日：2009-02-11
IPC分类:
