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发明授权
CN101165868B 晶片处理室的内衬及包含该内衬的晶片处理室 有权

晶片处理室的内衬及包含该内衬的晶片处理室
摘要：
本发明公开了一种晶片处理室的内衬及包含该内衬的晶片处理室，内衬包括内侧壁、外侧壁，内侧壁与外侧壁通过屏蔽板连接，外侧壁的上边缘连接有法兰，侧壁的边缘连接有延伸部分，所述的延伸部分包括外侧壁的上边缘向上延伸的部分、外侧壁的下边缘向下延伸的部分及内侧壁的下边缘向下延伸的部分。包含所述内衬的晶片处理室可以实现对调整支架的保护，并可以扩大对处理室的保护，减少停机清洗时间，提高生产率。主要适用于对半导体晶片处理室的保护，也适用于对其它类似腔室的保护。
摘要（英）：

The internal lining comprises: inner side wall, outer side wall. The inner side wall is connected to the outer side wall through a shielding plate; the upper edge of the outer side wall is connected to a flange; the edge of side wall is connected to an extended part; said extended part comprises the part extending to upper direction of the outer side wall, the lower edge of the outer side wall, and the lower edge of the inner side wall.

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