发明公开
- 专利标题: 异质栅多阶梯场极板横向双扩散金属氧化物半导体管
- 专利标题(英): Horizontal dispersion oxide semiconductor of heterogeneous bar multi-step field electrode board
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申请号: CN200710023524.2申请日: 2007-06-01
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公开(公告)号: CN101079446A公开(公告)日: 2007-11-28
- 发明人: 陈军宁 , 柯导明 , 代月花 , 高珊 , 徐超 , 孟坚 , 吴秀龙
- 申请人: 安徽大学
- 申请人地址: 安徽省合肥市肥西路3号
- 专利权人: 安徽大学
- 当前专利权人: 安徽大学
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市肥西路3号
- 代理机构: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司
- 代理商 何梅生
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L29/49 ; H01L29/423
摘要:
异质栅多阶梯场极板横向双扩散金属氧化物半导体管,其特征是设置源栅和漏栅的异质双栅结构,由第一级场极板和第二级场极板构成多阶梯场极板,源栅、漏栅、第一级场极板和第二级场极板依次相连;源和漏分别设置在沟道阱区和阱漂移区上;栅氧化层设在源栅、漏栅与沟道阱区之间,在沟道阱区上设有阱接触孔;场氧化层在第一级场极板、第二级场极板以及阱漂移区之间;氧化层覆盖在多阶梯场极板之上;沟道阱区和阱漂移区均位于衬底之上。本发明在保持横向双扩散金属氧化物半导体管击穿特性的基础上,有效提高驱动电流、跨导,减小导通电阻,并降低功耗。
IPC分类: