Invention Grant
- Patent Title: 涂布液供给装置及使用它的涂布液供给方法和涂布装置
- Patent Title (English): Photoresist coating liquid supplying apparatus, and photoresist coating liquid supplying method and photoresist coating apparatus using the photoresist coating liquid supplying apparatus
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Application No.: CN200580040035.7Application Date: 2005-11-25
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Publication No.: CN100477084CPublication Date: 2009-04-08
- Inventor: 谷口克人 , 小岛一弘 , 能谷敦子
- Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
- Applicant Address: 日本国东京都
- Assignee: AZ电子材料(日本)株式会社
- Current Assignee: 默克专利有限公司
- Current Assignee Address: 日本国东京都
- Agency: 北京三幸商标专利事务所
- Agent 刘激扬
- Priority: 340811/2004 2004.11.25 JP
- International Application: PCT/JP2005/021699 2005.11.25
- International Announcement: WO2006/057345 JA 2006.06.01
- Date entered country: 2007-05-22
- Main IPC: H01L21/027
- IPC: H01L21/027 ; B05C11/10 ; B05D3/00 ; G03F7/16 ; B05C5/02

Abstract:
本发明提供一种光致抗蚀剂涂布液供给装置和一种涂布液供给方法,以将含有很少颗粒的光致抗蚀剂涂布液供给至光致抗蚀剂涂布装置。还提供了一种光致抗蚀剂涂布装置,其通过使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置,可以实现具有很少缺陷和优异成本特性的涂布。该光致抗蚀剂涂布液供给装置具有用于光致抗蚀剂涂布液的缓冲容器;循环过滤装置,用于从缓冲容器中取出部分光致抗蚀剂涂布液,将其过滤并返回至缓冲容器;和用于将涂布液从缓冲容器或循环装置供给至涂布装置的管。还提供使用所述光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法,以及将涂布液供给装置与狭缝涂布装置组合使用的光致抗蚀剂涂布装置。
Public/Granted literature
- CN101061569A 光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法和光致抗蚀剂涂布装置 Public/Granted day:2007-10-24
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IPC分类: