公开(公告)号：US08722210B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US13321692

申请日：2010-07-12

申请人： Youn-Ki Jun ,  Keum-Shil Cho ,  Il Joon Bae ,  Sung Seock Hwang

发明人： Youn-Ki Jun ,  Keum-Shil Cho ,  Il Joon Bae ,  Sung Seock Hwang

IPC分类号： B32B15/04

CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/366

摘要： The present invention relates to low emissivity glass and to a method for manufacturing the same. The low emissivity glass comprises: a low emissivity layer; and a dielectric layer formed on the low emissivity layer, wherein the glass has an emissivity of 0.01 to 0.3 and a visible transmittance of 70% or more. According to the present invention, low emissivity glass having good emissive performance while also exhibiting high visible transmittance can be provided. Further, according to the present invention, the manufacturing process for the above-described low emissivity glass can be simplified, and initial investment amount can be reduced.

摘要翻译： 本发明涉及低辐射玻璃及其制造方法。 低辐射玻璃包括：低辐射层; 以及形成在所述低发射率层上的电介质层，其中，所述玻璃的发射率为0.01〜0.3，可见光透射率为70％以上。 根据本发明，可以提供具有良好发射性能的低发射率玻璃，同时也表现出高的可见光透射率。 此外，根据本发明，能够简化上述低发射率玻璃的制造工序，能够降低初期投入量。

公开(公告)号：US20120064335A1

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：US13321692

申请日：2010-07-12

申请人： Youn-Ki Jun ,  Keum-Shil Cho ,  Joon Bae, II ,  Sung Seock Hwang

发明人： Youn-Ki Jun ,  Keum-Shil Cho ,  Joon Bae, II ,  Sung Seock Hwang

IPC分类号： B32B3/00 ,  C23C14/34 ,  B32B17/06

CPC分类号： C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/366

摘要： The present invention relates to low emissivity glass and to a method for manufacturing the same. The low emissivity glass comprises: a low emissivity layer; and a dielectric layer formed on the low emissivity layer, wherein the glass has an emissivity of 0.01 to 0.3 and a visible transmittance of 70% or more. According to the present invention, low emissivity glass having good emissive performance while also exhibiting high visible transmittance can be provided. Further, according to the present invention, the manufacturing process for the above-described low emissivity glass can be simplified, and initial investment amount can be reduced.

摘要翻译： 本发明涉及低辐射玻璃及其制造方法。 低辐射玻璃包括：低辐射层; 以及形成在所述低发射率层上的电介质层，其中，所述玻璃的发射率为0.01〜0.3，可见光透射率为70％以上。 根据本发明，可以提供具有良好发射性能的低发射率玻璃，同时也表现出高的可见光透射率。 此外，根据本发明，能够简化上述低发射率玻璃的制造工序，能够降低初期投入量。