公开(公告)号：US09304399B2

公开(公告)日：2016-04-05

申请号：US14279795

申请日：2014-05-16

申请人： Sony Corporation

发明人： Nobuyuki Matsuzawa ,  Isao Mita ,  Koji Arimitsu

IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/30 ,  H01L21/0273

摘要： A resist composition includes: a crosslinking material that is crosslinked in the presence of an acid; an acid amplifier; and a solvent.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括：在酸存在下交联的交联材料; 酸放大器; 和溶剂。

公开(公告)号：US20140273513A1

公开(公告)日：2014-09-18

申请号：US14203775

申请日：2014-03-11

申请人： Sony Corporation

发明人： Isao Mita ,  Nobuyuki Matsuzawa ,  Koji Arimitsu

IPC分类号： G03F7/16 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/168 ,  G03F7/0035 ,  H01L21/0273

摘要： There is provided a resist composition including a crosslinking material configured to cause crosslinking in the presence of an acid, an inclusion compound, and a solvent.

摘要翻译： 提供了一种抗蚀剂组合物，其包含在酸，包合物和溶剂的存在下引起交联的交联材料。

公开(公告)号：US20140248777A1

公开(公告)日：2014-09-04

申请号：US14279795

申请日：2014-05-16

申请人： Sony Corporation

发明人： Nobuyuki Matsuzawa ,  Isao Mita ,  Koji Arimitsu

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/30 ,  H01L21/0273

摘要： A resist composition includes: a crosslinking material that is crosslinked in the presence of an acid; an acid amplifier; and a solvent.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括：在酸存在下交联的交联材料; 酸放大器; 和溶剂。