公开(公告)号：US10001700B2

公开(公告)日：2018-06-19

申请号：US15034014

申请日：2014-06-03

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd. ,  Research & Business Foundation SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY ,  Fine Semitech Co., Ltd.

Inventor： Mun Ja Kim ,  Ji-beom Yoo ,  Seul-gi Kim ,  Sang-jin Cho ,  Myung-shik Chang ,  Jang-dong You

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62

Abstract: A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes a graphite-containing thin film.

公开(公告)号：US10394117B2

公开(公告)日：2019-08-27

申请号：US15977283

申请日：2018-05-11

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Inventor： Mun Ja Kim ,  Ji-beom Yoo ,  Seul-gi Kim ,  Sang-jin Cho ,  Myung-shik Chang ,  Jang-dong You

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64

Abstract: A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes a graphite-containing thin film.