公开(公告)号：US20150301452A1

公开(公告)日：2015-10-22

申请号：US14503062

申请日：2014-09-30

Applicant: Samsung Display Co., Ltd.

Inventor： Jeong-Min Park ,  Jun Chun ,  Ji-Hyun Kim ,  Sung-Kyun Park ,  Jung-Soo Lee ,  Ki-Hyun Cho ,  Jin-Ho Ju ,  Chang-Ik Lee ,  Se-Tae Oh ,  Deok-Man Kang

IPC: G03F7/038 ,  C23F1/02 ,  C23F1/16 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40

CPC classification number: C23F1/02 ,  C23F1/16 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  H01L27/1288

Abstract: A chemically amplified photoresist composition is provided which includes: a solute including a novolac resin with an acid decomposable protecting group, a photoacid generator, and an organic solvent.

Abstract translation: 提供一种化学放大光致抗蚀剂组合物，其包括：包含具有酸可分解保护基的酚醛清漆树脂的溶质，光酸产生剂和有机溶剂。