公开(公告)号：US20160155616A1

公开(公告)日：2016-06-02

申请号：US14815346

申请日：2015-07-31

Applicant: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.

Inventor： Suho LEE ,  Sung-Gyu PARK ,  Jongrok PARK ,  Jinhyuk CHOI ,  Moonhyeong HAN ,  Sangchul HAN

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/46 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/511

CPC classification number: H01J37/32633 ,  C23C16/452 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/4558 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/46 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32733

Abstract: A substrate processing apparatus includes a chamber, and a plasma generator disposed at an upper portion of the chamber. A susceptor is disposed in the chamber. The susceptor supports the substrate. A gas-distributing plate is configured to transfer plasma generated in the plasma generator to the susceptor. A rotating part is disposed under the chamber. The rotating part is configured to rotate the susceptor.

Abstract translation: 基板处理装置包括设置在室的上部的室和等离子体发生器。 感受体设置在室中。 基座支撑基板。 气体分配板构造成将等离子体发生器中产生的等离子体转移到基座。 旋转部件设置在室下方。 旋转部分构造成旋转基座。