公开(公告)号：US20020091216A1

公开(公告)日：2002-07-11

申请号：US10079753

申请日：2002-02-19

申请人： Hyundai Electronics Industries Co., Ltd.

发明人： Geun Su Lee ,  Cha Won Koh ,  Jae Chang Jung ,  Min Ho Jung ,  Ki Ho Baik

IPC分类号： C08F010/00 ,  C08F032/08 ,  C08F036/00 ,  C08F132/08 ,  C08F136/00 ,  C08F232/08 ,  C08F236/00

CPC分类号： C07D493/08 ,  C07C69/753 ,  C08F32/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039

摘要： The present invention relates to novel monomers which can be used to form polymers which are useful in a photolithography employing a light source in the far ultraviolet region of the light spectrum, copolymers thereof, and photoresist compositions prepared therefrom. Photoresist monomers of the present invention are represented by the following Chemical Formula 1: 1 wherein, R is substituted or non-substituted linear or branched (C1-C10) alkyl, substituted or non-substituted (C1-C10) ether, substituted or non-substituted (C1-C10) ester, or substituted or non-substituted (C1-C10) ketone; X and Y are independently CH2, CH2CH2, oxygen or sulfur; and i is 0 or an integer of 1 to 2.

摘要翻译： 本发明涉及可用于形成聚合物的新型单体，其可用于使用光谱的远紫外区域中的光源的光刻法，其共聚物和由其制备的光致抗蚀剂组合物。 本发明的光致抗蚀剂单体由以下化学式1表示：其中，R为取代或未取代的直链或支链（C1-C10）烷基，取代或未取代的（C1-C10）醚， 取代的（C1-C10）酯或取代或未取代的（C1-C10）酮; X和Y独立地是CH 2，CH 2 CH 2，氧或硫; i为0或1〜2的整数。