公开(公告)号：US06504143B2

公开(公告)日：2003-01-07

申请号：US09194554

申请日：1999-09-10

申请人： Hans Wilfried Koops ,  Ulrich Koops

发明人： Hans Wilfried Koops ,  Ulrich Koops

IPC分类号： H01J4014

CPC分类号： H01J31/28 ,  G06F3/0421 ,  H01J31/123 ,  H01J2231/50015 ,  H01J2231/50068

摘要： In an apparatus for the input of information, it is provided that a raster or an array of light-emitting screen elements is associated with a raster or an array of photodetectors, the light emitted by at least one of the screen elements being reflected to at least one of the photodetectors when an object approaches the apparatus; it is further provided that output signals of the photodetectors are used to obtain information on which of the photodetectors are receiving reflected light.

摘要翻译： 在用于输入信息的装置中，提供了光栅或阵列的发光屏元件与光电检测器的光栅或阵列相关联，由至少一个屏幕元件发射的光被反射到 当物体接近设备时，光电检测器中的至少一个; 进一步地，光电检测器的输出信号用于获得关于哪个光电检测器正在接收反射光的信息。

公开(公告)号：US06291139B1

公开(公告)日：2001-09-18

申请号：US09029505

申请日：1998-07-09

申请人： Sergey Babine ,  Hans Wilfried Koops

发明人： Sergey Babine ,  Hans Wilfried Koops

IPC分类号： G03F726

CPC分类号： G03F7/36 ,  B29C64/106 ,  B29C64/124 ,  B29L2011/0016 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/25 ,  G02B6/4203 ,  G03F7/0758

摘要： A process for the fabrication of polymer layers structured in three dimensions, such as of lenses, which are applied to the end of optical fibers or of laser light sources. Dry resist that is polymerizable through exposure is used as a base substance. The dry resist is applied to a substrate and is exposed with a dose apportionment that is predefined as a function of space and time in a structure region. The structure region is precalculated with submicrometer precision using image-processing methods and exhibits the form of the desired lens. The lens-shaped structure region that is polymerized through exposure is removed from the unexposed dry resist. The process of the present invention makes it possible to place lenses on an optical fiber or a laser with submicrometer precision.

摘要翻译： 用于制造三维结构的聚合物层的方法，例如透镜，其应用于光纤或激光光源的端部。 作为基础物质使用通过曝光可聚合的干燥抗蚀剂。 将干燥的抗蚀剂施加到基底上，并以在结构区域中作为空间和时间的函数预定的剂量分配进行暴露。 使用图像处理方法，使用亚微米精度对结构区域进行预先计算，并呈现所需透镜的形式。 通过曝光聚合的透镜状结构区域从未曝光的干燥抗蚀剂中除去。 本发明的方法使得可以将透镜放置在具有亚微米精度的光纤或激光器上。

公开(公告)号：US06370298B2

公开(公告)日：2002-04-09

申请号：US09319510

申请日：1999-06-07

申请人： Hans Wilfried Koops

发明人： Hans Wilfried Koops

IPC分类号： G02B632

CPC分类号： G02B6/4206 ,  G02B6/32 ,  G02B6/4296

摘要： In a device for optical coupling of a solid-state laser to an optical fiber, an anamorphic lens system is arranged between the output face of the solid-state laser and the input face of the optical fiber, the lens system converting differing apertures in the main sections of the solid-state laser into essentially identical apertures at the input face of the optical fiber. The lens system is composed of one anamorphic lens applied on the output face and a further lens applied on the input face.

摘要翻译： 在固体激光器与光纤的光耦合的装置中，变形透镜系统设置在固体激光器的输出面与光纤的输入面之间，透镜系统将不同的孔径 固态激光器的主要部分在光纤的输入面处成基本相同的孔。 透镜系统由应用在输出面上的一个变形透镜和施加在输入面上的另一透镜组成。

公开(公告)号：US06310991B1

公开(公告)日：2001-10-30

申请号：US09423956

申请日：1999-11-16

申请人： Hans Wilfried Koops ,  Wolfgang Dultz

发明人： Hans Wilfried Koops ,  Wolfgang Dultz

IPC分类号： G02B612

CPC分类号： B82Y20/00 ,  G02B6/1225 ,  G02F1/011 ,  G02F1/225 ,  G02F2001/212 ,  G02F2202/32

摘要： An integrated optical circuit is described. The optical circuit includes a silicon substrate and waveguides disposed thereon, at least one photonic crystal is provided as a waveguide.

摘要翻译： 描述集成光电路。 光电路包括硅衬底和设置在其上的波导，至少一个光子晶体被提供为波导。