公开(公告)号：US20150309408A1

公开(公告)日：2015-10-29

申请号：US14794393

申请日：2015-07-08

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Tomotaka TSUCHIMURA ,  Tadateru YATSUO

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F1/50 ,  G03F1/76 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F1/50 ,  G03F1/76 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

摘要： A negative resist composition includes an onium salt compound (A) containing a nitrogen atom in its cation moiety, a compound (B) that is configured to produce an acid when exposed to actinic rays or radiation, and a compound (C) containing an acid-crosslinkable group.

摘要翻译： 负性抗蚀剂组合物包括在其阳离子部分含有氮原子的鎓盐化合物（A），被配置为在暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物（B）和含有酸的化合物（C） 交联组。

公开(公告)号：US20140227642A1

公开(公告)日：2014-08-14

申请号：US14255113

申请日：2014-04-17

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Koji SHIRAKAWA ,  Tadateru YATSUO

IPC分类号： G03F7/11

CPC分类号： G03F7/11 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0382 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32 ,  Y10S430/143

摘要： A negative resist composition, includes: (A) an alkali-soluble polymer containing a specific repeating unit as defined in the specification; (B) a crosslinking agent capable of crosslinking with the alkali soluble polymer (A) under an action of an acid; (C) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (D) a specific quaternary ammonium salt as defined in the specification; and (E) an organic carboxylic acid, and a pattern forming method uses the composition.

摘要翻译： 负光刻胶组合物包括：（A）含有本说明书中定义的特定重复单元的碱溶性聚合物; （B）能够在酸的作用下与碱溶性聚合物（A）交联的交联剂; （C）能够在光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; （D）说明书中定义的特定季铵盐; 和（E）有机羧酸，并且图案形成方法使用该组合物。

公开(公告)号：US20130302726A1

公开(公告)日：2013-11-14

申请号：US13943062

申请日：2013-07-16

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Tomotaka TSUCHIMURA ,  Tadateru YATSUO

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F1/22 ,  G03F1/20

CPC分类号： G03F7/0382 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F257/00 ,  C08K5/19 ,  C09D125/18 ,  G03F1/20 ,  G03F1/22 ,  G03F1/56 ,  G03F1/76 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2039 ,  C08F212/32 ,  C08L25/18 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/42

摘要： A chemical amplification resist composition contains: (A) a polymer compound having a structure where a hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group is replaced by a group having a non-acid-decomposable polycyclic alicyclic hydrocarbon structure; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.

摘要翻译： 化学增幅抗蚀剂组合物包含：（A）具有酚羟基的氢原子被具有非酸可分解多环脂族烃结构的基团代替的结构的高分子化合物; 和（B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物。