公开(公告)号：US20090253073A1

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：US12084614

申请日：2006-11-06

申请人： Wolfgang Zahn ,  Ralf Grottenmüller ,  Dieter Wagner

发明人： Wolfgang Zahn ,  Ralf Grottenmüller ,  Dieter Wagner

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08G8/02 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0233 ,  C07C309/76 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0381

摘要： A compound of the formula (I) where the symbols and indices are each defined as follows: A is A′, R or O—R; where R is a straight-chain, branched or cyclic, saturated or unsaturated aliphatic radical having 1-8 carbon atoms; A′ is the same or different and is B is a bond, —O—C(O)—, —C(O)—O—, —O—C(O)—, —C(O)—NH—, —NH—C(O)—, —C(O)—O—CH2—CH(OH)—CH2—O, —O—CH2—CH(OH)—CH2—O—(O)C—, —O—C(O)—O—, —O—C(O)—NH— or —NH—C(O)—O—; R1 is H or OH; m is 1, 2, 3, 4 or 5; Y is n is a positive rational number ≧3; E is the same or different and is —CH—CHR2—, —CHR2—CH2—, —CH2—CHR2—O—, —O—CHR2—CH2—, —(CH2)r—O— or —O—(CH2)—; R2 is H or CH3 and r is 1 or 4, is suitable as a light-sensitive component for photoresists.

摘要翻译： 符号和指数各自定义如下：式（I）的化合物：A是A'，R或O-R; 其中R是具有1-8个碳原子的直链，支链或环状饱和或不饱和的脂族基团; A'相同或不同，B为键，-OC（O） - ， - C（O）-O-，-OC（O） - ， - C（O）-NH-，-NH-C （O） - ， - C（O）-O-CH 2 -CH（OH）-CH 2 -O，-O-CH 2 -CH（OH）-CH 2 -O-（O） O-，-OC（O）-NH-或-NH-C（O）-O-; R1是H或OH; m为1,2,3,4或5; Y是n是正有理数> = 3; E相同或不同，为-CH-CHR 2 - ， - CHR 2 -CH 2 - ， - CH 2 -CHR 2 -O - ， - O-CHR 2 -CH 2 - ， - （CH 2）r O-或-O-（CH 2） ; R2是H或CH3，r是1或4，适用作光致抗蚀剂的光敏组分。

公开(公告)号：US08012664B2

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：US12084614

申请日：2006-11-06

申请人： Wolfgang Zahn ,  Ralf Grottenmüller ,  Dieter Wagner

发明人： Wolfgang Zahn ,  Ralf Grottenmüller ,  Dieter Wagner

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/30 ,  C07C245/12

CPC分类号： G03F7/0233 ,  C07C309/76 ,  C08K5/42 ,  G03F7/0381

摘要： A compound of the formula (I) where the symbols and indices are each defined as follows: A is A′, R or O—R; where R is a straight-chain, branched or cyclic, saturated or unsaturated aliphatic radical having 1-8 carbon atoms; A′ is the same or different and is B is a bond, —O—C(O)—, —C(O)—O—, —O—C(O)—, —C(O)—NH—, —NH—C(O)—, —C(O)—O—CH2—CH(OH)—CH2—O, —O—CH2—CH(OH)—CH2—O—(O)C—, —O—C(O)—O—, —O—C(O)—NH— or —NH—C(O)—O—; R1 is H or OH; m is 1, 2, 3, 4 or 5; Y is n is a positive rational number ≧3; E is the same or different and is —CH—CHR2—, —CHR2—CH2—, —CH2—CHR2—O—, —O—CHR2—CH2—, —(CH2)r—O— or —O—(CH2)—; R2 is H or CH3 and r is 1 or 4, is suitable as a light-sensitive component for photoresists.

摘要翻译： 符号和指数各自定义如下：式（I）的化合物：A是A'，R或O-R; 其中R是具有1-8个碳原子的直链，支链或环状饱和或不饱和的脂族基团; A'相同或不同，B为键，-O-C（O） - ， - C（O）-O-，-O-C（O） - ， - C（O） -NH-C（O） - ， - C（O）-O-CH 2 -CH（OH）-CH 2 -O，-O-CH 2 -CH（OH）-CH 2 -O-（O） -C（O）-O-，-O-C（O）-NH-或-NH-C（O）-O-; R1是H或OH; m为1,2,3,4或5; Y为正有理数≧3; E相同或不同，为-CH-CHR 2 - ， - CH 2 -CH 2 - ， - CH 2 -CHR 2 -O - ， - O-CHR 2 -CH 2 - ， - （CH 2）r -O-或-O- ） - ; R2是H或CH3，r是1或4，适用作光致抗蚀剂的光敏组分。

公开(公告)号：US06515172B2

公开(公告)日：2003-02-04

申请号：US09902395

申请日：2001-07-10

申请人： Ralf Grottenmüller ,  Wolfgang Knaup ,  Anton Probst ,  Klaus Dullinger

发明人： Ralf Grottenmüller ,  Wolfgang Knaup ,  Anton Probst ,  Klaus Dullinger

IPC分类号： C07C51215

CPC分类号： C07C51/215 ,  C07C51/21 ,  C07C67/39 ,  C07C57/56 ,  C07C53/21 ,  C07C69/63

摘要： Process for the preparation of perfluorocarboxylic acids of the formula RF—COOH, salts thereof and esters thereof from perfluoroalkyl iodides of the formula RF′—I, in which RF and RF′ are cyclic, branched or linear, saturated or unsaturated perfluoroalkyl radicals, by activating the perfluoroalkyl iodides in the presence of oxygen and in organic solvents.