公开(公告)号：US08477285B2

公开(公告)日：2013-07-02

申请号：US12973844

申请日：2010-12-20

申请人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

发明人： Dirk Heinrich Ehm ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062

摘要： An optical assembly is mounted in a projection exposure apparatus (101) for EUV microlithography and includes at least one vacuum chamber (70, 71, 68a), at least one optical element (6, 7; 65, 66; 63) arranged in the vacuum chamber (70, 71, 68a), the optical element (6, 7; 65, 66; 63) having an optical surface (18) arranged to be impinged upon by a useful beam bundle (3) of the projection exposure apparatus (101), and a cleaning device (72) configured to clean the optical surface (18). The cleaning device (72) is configured to perform particle cleaning of the optical surface (18) at a gas pressure within the vacuum chamber (70,71, 68a) which is higher than a vacuum pressure (po) for performing an exposure operation with the projection exposure apparatus (101). As a result, optical elements having respective optical surfaces arranged to be impinged upon by a useful beam bundle can be cleaned reliably of foreign particles.

摘要翻译： 光学组件安装在用于EUV微光刻的投影曝光设备（101）中，并且包括至少一个真空室（70,71,68a），至少一个光学元件（6,7; 65,66,63） 所述光学元件（6,7; 65,66,63）具有光学表面（18），所述光学表面被布置成被所述投影曝光设备的有用束束（3）撞击 101）和被构造成清洁光学表面（18）的清洁装置（72）。 清洁装置（72）构造成在真空室（70,71,68a）内的气体压力下进行光学表面（18）的粒子清洁，该气体压力高于用于进行曝光操作的真空压力（po） 投影曝光装置（101）。 结果，可以可靠地清洁具有布置成被有用的束束撞击的各个光学表面的光学元件的外来颗粒。

公开(公告)号：US20130229651A1

公开(公告)日：2013-09-05

申请号：US13825020

申请日：2011-09-20

申请人： Bastiaan Robert Ouwerkerk ,  Kees Moddemeijer ,  Marijn Sandtke

发明人： Bastiaan Robert Ouwerkerk ,  Kees Moddemeijer ,  Marijn Sandtke

IPC分类号： G01J3/44

CPC分类号： G01J3/44 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0256 ,  G02B17/086 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0047 ,  G02B19/0076 ,  G02B19/0085 ,  G02B19/009 ,  G02B23/2469

摘要： The optical probe contains a monolithic body of optically transparent material to perform focusing for a plurality of parallel light paths from one or more fibers to one or more object points. Surface parts of the monolithic body are curved to form lenses and/or coated with a reflective coating. On a fiber side of the monolithic body an opening or openings are provided in a reflective coating opposite the tip or tips of the fibers to pass light. On the object side of the monolithic body, a coated surface part reflects the light path from the openings back to the fiber side of the monolithic body, from where the light path is reflected towards an aperture on the object side. At least part of the reflecting surfaces is curved to form reflector a plurality of distinct lenses on the same side of the monolithic body.

摘要翻译： 光学探针包含光学透明材料的整体，以便执行从一个或多个光纤到一个或多个物体点的多条平行光路的聚焦。 单块体的表面部分是弯曲的以形成透镜和/或涂覆有反射涂层。 在单片体的纤维侧，在与纤维的尖端或尖端相对的反射涂层中提供开口或开口以通过光。 在整体式物体的物体侧，涂覆的表面部分将光路从开口反射回单片体的纤维侧，从该光路向物体侧的孔反射。 反射表面的至少一部分是弯曲的，以在整体式主体的同一侧上形成多个不同的透镜。

公开(公告)号：US20110188011A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：US12973844

申请日：2010-12-20

申请人： Dirk Heinrich EHM ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

发明人： Dirk Heinrich EHM ,  Arnoldus Jan Storm ,  Johannes Hubertus Josephina Moors ,  Almut Czap ,  Mona Nagel ,  Jacques Cor Johan van der Donck ,  Jetske Karina Stortelder ,  Marijn Sandtke ,  Maria Isabel Catalina Caballero ,  Luigi Scaccabarozzi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/52 ,  B08B5/04

CPC分类号： G03F7/70925 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062

摘要： An optical assembly is mounted in a projection exposure apparatus (101) for EUV microlithography and includes at least one vacuum chamber (70, 71, 68a), at least one optical element (6, 7; 65, 66; 63) arranged in the vacuum chamber (70, 71, 68a), the optical element (6, 7; 65, 66; 63) having an optical surface (18) arranged to be impinged upon by a useful beam bundle (3) of the projection exposure apparatus (101), and a cleaning device (72) configured to clean the optical surface (18). The cleaning device (72) is configured to perform particle cleaning of the optical surface (18) at a gas pressure within the vacuum chamber (70,71, 68a) which is higher than a vacuum pressure (po) for performing an exposure operation with the projection exposure apparatus (101). As a result, optical elements having respective optical surfaces arranged to be impinged upon by a useful beam bundle can be cleaned reliably of foreign particles.

摘要翻译： 光学组件安装在用于EUV微光刻的投影曝光设备（101）中，并且包括至少一个真空室（70,71,68a），至少一个光学元件（6,7; 65,66,63） 所述光学元件（6,7; 65,66,63）具有光学表面（18），所述光学表面被布置成被所述投影曝光设备的有用束束（3）撞击 101）和被构造成清洁光学表面（18）的清洁装置（72）。 清洁装置（72）构造成在真空室（70,71,68a）内的气体压力下进行光学表面（18）的粒子清洁，该气体压力高于用于进行曝光操作的真空压力（po） 投影曝光装置（101）。 结果，可以可靠地清洁具有布置成被有用的束束撞击的各个光学表面的光学元件的外来颗粒。