公开(公告)号：US20090283710A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US12425419

申请日：2009-04-17

申请人： Paolo Bertini ,  Alessio Di Cocco ,  Fabrizio Piarulli

发明人： Paolo Bertini ,  Alessio Di Cocco ,  Fabrizio Piarulli

IPC分类号： F16K1/00 ,  B32B15/04 ,  B23P17/00

CPC分类号： B23P11/00 ,  F02M61/168 ,  F02M2200/80 ,  F02M2200/9038

摘要： Interference fit assembly (10) of a first metal part (12) and a second metal part (18), wherein the first metal part (12) has a recess (14) with an inner contact surface (16), and the second metal part (18) has an outer contact surface (20) being coupled to the inner contact surface (16) by an interference fit. At least one of the contact surfaces (16, 20) has a surface layer (22) has a diamond-like carbon layer (24). In a method for producing an interference fit assembly (10) the surface layer (22) is applied on at least one of the contact surfaces (16, 20) by a Physical Vapor Deposition (PVD) or a Chemical Vapor Deposition (CVD) process with the surface layer (22) having the diamond-like carbon layer (24).

摘要翻译： 第一金属部件（12）和第二金属部件（18）的干涉配合组件（10），其中所述第一金属部件（12）具有带有内接触表面（16）的凹部（14），所述第二金属部件 部分（18）具有通过过盈配合联接到内接触表面（16）的外接触表面（20）。 至少一个接触表面（16,20）具有表面层（22），其具有类金刚石碳层（24）。 在制造干涉配合组件（10）的方法中，通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）工艺将表面层（22）施加在至少一个接触表面（16,20）上 其中表面层（22）具有类金刚石碳层（24）。

公开(公告)号：US08517339B2

公开(公告)日：2013-08-27

申请号：US12425419

申请日：2009-04-17

申请人： Paolo Bertini ,  Alessio Di Cocco ,  Fabrizio Piarulli

发明人： Paolo Bertini ,  Alessio Di Cocco ,  Fabrizio Piarulli

IPC分类号： F16B4/00

CPC分类号： B23P11/00 ,  F02M61/168 ,  F02M2200/80 ,  F02M2200/9038

摘要： Interference fit assembly of a first metal part and a second metal part, wherein the first metal part has a recess with an inner contact surface, and the second metal part has an outer contact surface being coupled to the inner contact surface by an interference fit. At least one of the contact surfaces includes a surface layer including a diamond-like carbon. In a method for producing an interference fit assembly the surface layer is applied on at least one of the contact surfaces by a Physical Vapor Deposition or a Chemical Vapor Deposition process with the surface layer having the diamond-like carbon.

摘要翻译： 第一金属部件和第二金属部件的干涉配合组件，其中所述第一金属部件具有带有内接触表面的凹部，并且所述第二金属部件具有通过过盈配合联接到所述内接触表面的外接触表面。 至少一个接触表面包括包含类金刚石碳的表面层。 在制造干涉配合组件的方法中，表面层通过具有类金刚石碳的表面层的物理气相沉积或化学气相沉积工艺施加在至少一个接触表面上。