公开(公告)号：US20050112380A1

公开(公告)日：2005-05-26

申请号：US10996507

申请日：2004-11-24

申请人： Heather Boek ,  Christine Heckle ,  Johannes Moll ,  Charlene Smith

发明人： Heather Boek ,  Christine Heckle ,  Johannes Moll ,  Charlene Smith

IPC分类号： G02B1/00 ,  B32B9/04 ,  B32B15/00 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C15/00 ,  C03C17/30 ,  C03C17/32 ,  C03C19/00

CPC分类号： C03C15/00 ,  C03C17/30 ,  C03C17/32 ,  C03C19/00

摘要： Disclosed is a synthetic silica glass optical material having high resistance to optical damage by ultraviolet radiation in the ultraviolet wavelength range, particularly in the wavelength region of less than about 250 nm and particularly, exhibiting a low laser induced density change. The synthetic silica glass optical material of the present invention contains at least about 0.1 ppm of aluminum and H2 concentration levels greater than about 0.5×1017 molecules/cm2. Additionally, the synthetic silica optical material of the present invention exhibits an H2 to Al ratio of greater than about 1.2, as measured in ×1017/cm3 molecules H2 per ppm Al.

摘要翻译： 公开了一种合成石英玻璃光学材料，其特征在于在小于约250nm的波长区域，特别是具有低激光诱导密度变化的紫外线波长范围内具有高抗紫外线辐射的光学损伤。 本发明的合成石英玻璃光学材料包含至少约0.1ppm的铝和大于约0.5×10 17分子/ cm 2的H 2 O 2浓度水平 。 此外，本发明的合成二氧化硅光学材料的显示出H 2/2比率大于约1.2，如在x 10 17 / cm 3 / SUP>分子H 2 2 / ppm。