公开(公告)号：USD865814S1

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：US29617934

申请日：2017-09-18

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Designer： June-Seok Kim ,  Kyoungsoo Youn ,  Jaehan Lee ,  Hoyoung Lee ,  Hoik Hwang

公开(公告)号：USD839914S1

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：US29618933

申请日：2017-09-26

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Designer： Hoyoung Lee ,  Nari Choi ,  Hoik Hwang ,  Daehong Ki ,  June-Seok Kim ,  Seock Hyun Yu ,  Soojin Jeong Lim ,  Junho Choi ,  Jinho Choi ,  Kyoung Soo Yoon ,  Jaehan Lee

公开(公告)号：US20140329379A1

公开(公告)日：2014-11-06

申请号：US14085194

申请日：2013-11-20

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Inventor： Chul-Ho Kim ,  Cheolhong Kim ,  Chorong Park ,  Jaehan Lee

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/283 ,  H01L21/28

CPC classification number: H01L21/283 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0335 ,  H01L21/28008 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/76807 ,  H01L21/76838 ,  H01L27/11548 ,  H01L27/11575 ,  H01L2221/1021

Abstract: A patterning method includes forming a photoresist layer on a processing layer and exposing the photoresist layer using a standing wave/defocusing exposure to produce a photoresist layer having a staircase pattern.

Abstract translation: 图案化方法包括在处理层上形成光致抗蚀剂层，并使用驻波/散焦曝光曝光光致抗蚀剂层，以产生具有阶梯图案的光致抗蚀剂层。