公开(公告)号：US20080037830A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11698988

申请日：2007-01-29

申请人： Akiyuki Sugiyama ,  Hiroyuki Shindo ,  Hitoshi Komuro ,  Takumichi Sutani ,  Hidetoshi Morokuma

发明人： Akiyuki Sugiyama ,  Hiroyuki Shindo ,  Hitoshi Komuro ,  Takumichi Sutani ,  Hidetoshi Morokuma

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06K9/6204 ,  G06K9/4633

摘要： A pattern matching method which is capable of selecting a suitable measurement object pattern, even on a sample containing a periodic structure, and a computer program for making a computer execute the pattern matching. In a pattern matching method which executes matching between the design data-based first image of an object sample, and a second image, whether or not a periodic structure is included in a region to execute the matching is determined, so as to select a pattern, based on distance between an original point which is set in said image, and the pattern configuring said periodic structure, in the case where the periodic structure is included in said region, and to select a pattern based on coincidence of the pattern in said image, in the case where the periodic structure is not included in said region, and a computer program product.

摘要翻译： 能够选择合适的测量对象图案的模式匹配方法，即使在包含周期性结构的样本上，也可以使计算机程序使计算机执行模式匹配。 在执行对象样本的基于设计数据的第一图像与第二图像之间的匹配的图案匹配方法中，确定在区域中是否包括周期性结构以执行匹配，以便选择图案 基于在所述图像中设置的原始点与构成所述周期性结构的图案之间的距离，在所述区域中包括周期性结构的情况下，以及基于所述图像中的图案的一致性来选择图案 在周期性结构不包括在所述区域中的情况下，以及计算机程序产品。

公开(公告)号：US20070223803A1

公开(公告)日：2007-09-27

申请号：US11723577

申请日：2007-03-21

申请人： Hiroyuki Shindo ,  Akiyuki Sugiyama ,  Takumichi Sutani ,  Hidetoshi Morokuma ,  Hitoshi Komuro

发明人： Hiroyuki Shindo ,  Akiyuki Sugiyama ,  Takumichi Sutani ,  Hidetoshi Morokuma ,  Hitoshi Komuro

IPC分类号： G06K9/00

CPC分类号： G06K9/2036 ,  G06T7/0006 ,  G06T2207/10056 ,  G06T2207/30148 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/24592

摘要： It is an object of the invention to provide a suitable method for identifying depression/protrusion information in a design data; and a program and an apparatus for the same; for example, even in the case that similar portions are arranged, to provide a method for enabling a pattern matching with high precision between the design data and an image obtained by an image formation apparatus or the like; and a program and an apparatus for the same. To attain the above object, a pattern matching method, wherein, using information concerning a depression and/or a protrusion of the pattern on the design data, or a pattern portion and/or a non-pattern portion on the design data, pattern matching is executed between the pattern on the design data and the pattern on said image; and a program for the same are provided.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种用于在设计数据中识别抑郁/突出信息的合适方法; 以及用于其的程序和装置; 例如，即使在配置相似部分的情况下，也可以提供一种能够在设计数据和由图像形成装置等获得的图像之间实现高精度的图案匹配的方法; 以及用于其的程序和装置。 为了实现上述目的，提供了一种图案匹配方法，其中使用关于设计数据上的图案的凹陷和/或突出的信息，或者设计数据上的图案部分和/或非图案部分的图案匹配 在设计数据上的图案和所述图像上的图案之间执行; 并提供其程序。

公开(公告)号：US20070023653A1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：US11453229

申请日：2006-06-15

申请人： Yasutaka Toyoda ,  Akiyuki Sugiyama ,  Ryoichi Matsuoka ,  Takumichi Sutani ,  Hidemitsu Naya

发明人： Yasutaka Toyoda ,  Akiyuki Sugiyama ,  Ryoichi Matsuoka ,  Takumichi Sutani ,  Hidemitsu Naya

IPC分类号： G21K7/00

CPC分类号： G06T7/0006 ,  G06T2207/30148 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/2817

摘要： A pattern inspection apparatus can be provided, for example, in a scanning electron microscope system. When patterns of a plurality of layers are included in a SEM image, the apparatus separates the patterns according to each layer by using design data of the plurality of layers corresponding to the patterns. Consequently, the apparatus can realize inspection with use of only the pattern of a target layer to be inspected, pattern inspection differently for different layers, or detection of a positional offset between the layers.

摘要翻译： 例如，可以在扫描型电子显微镜系统中设置图案检查装置。 当在SEM图像中包含多层图案时，该装置通过使用与图案相对应的多个层的设计数据来分离根据每一层的图案。 因此，该装置可以仅使用要检查的目标层的图案，不同层的图案检查或层之间的位置偏移的检测来实现检查。