公开(公告)号：US09023576B2

公开(公告)日：2015-05-05

申请号：US12917953

申请日：2010-11-02

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition for immersion exposure comprises: (A) a resin containing at least one repeating unit having a fluorine atom and increasing a solubility of the resin in an alkali developer by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation.

摘要翻译： 用于浸渍曝光的正型抗蚀剂组合物包括：（A）含有至少一个具有氟原子的重复单元的树脂，并通过酸的作用增加树脂在碱性显影剂中的溶解度; 和（B）能够在用光化射线和辐射之一照射时能够产生酸的化合物。

公开(公告)号：US08945810B2

公开(公告)日：2015-02-03

申请号：US13173210

申请日：2011-06-30

申请人： Fumiyuki Nishiyama ,  Hiromi Kanda

发明人： Fumiyuki Nishiyama ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A positive resist composition comprises: (A) a resin that has a repeating unit represented by general formula (a1) and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid; (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation; and (C) a resin that has at least one of a fluorine atom and a silicon atom and has a group selected from the group consisting of (x), (y) and (z); and (D) a solvent: (x) an alkali-soluble group; (y) a group capable that decomposes by action of an alkali developer to undergo an increase in a solubility of the resin (C) in an alkali developer; and (z) a group that decomposes by action of an acid, wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group, Rxa represents an alkyl group or a cycloalkyl group, and n represents an integer of 1 to 8.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含：（A）具有由通式（a1）表示的重复单元并通过酸的作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物; 和（C）具有氟原子和硅原子中的至少一个并且具有选自（x），（y）和（z）的基团的树脂; 和（D）溶剂：（x）碱溶性基团; （y）能够通过碱性显影剂的作用分解以使树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度增加的基团; 和（z）通过酸的作用分解的基团，其中R表示氢原子或甲基，Rxa表示烷基或环烷基，n表示1至8的整数。

公开(公告)号：US08389200B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US12618365

申请日：2009-11-13

申请人： Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Hiromi Kanda

发明人： Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A pattern forming method which uses a positive resist composition comprises: (A) a fluorine-free resin capable of increasing its solubility in an alkaline developer under action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (C) a fluorine-containing resin having at least one group selected from the group consisting of (X) an alkali-soluble group, (XI) a group capable of decomposing under action of an alkali developer and increasing solubility of the resin (C) in an alkaline developer and (XII) a group capable of decomposing under action of an acid and increasing solubility of the resin (C) in an alkaline developer; and (D) a solvent, the method comprising: (i) a step of applying the positive resist composition to a substrate to form a resist coating; (ii) a step of exposing the resist coating to light via an immersion liquid; (iii) a step of removing the immersion liquid remaining on the resist coating; (iv) a step of heating the resist coating; and (v) a step of developing the resist coating.

摘要翻译： 使用正性抗蚀剂组合物的图案形成方法包括：（A）能够在酸的作用下增加其在碱性显影剂中的溶解度的无氟树脂; （B）能够在用光化射线或辐射照射时能产生酸的化合物; （C）具有选自（X）碱溶性基团（XI）中的至少一种基团的含氟树脂，（XI）能够在碱性显影剂的作用下分解的基团和增加树脂的溶解度（C ）和（XII）能够在酸的作用下分解并增加树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度的基团; 和（D）溶剂，所述方法包括：（i）将正性抗蚀剂组合物施加到基材以形成抗蚀剂涂层的步骤; （ii）通过浸没液体使抗蚀剂涂层曝光的步骤; （iii）去除残留在抗蚀剂涂层上的浸渍液体的步骤; （iv）加热抗蚀剂涂层的步骤; 和（v）开发抗蚀剂涂层的步骤。

公开(公告)号：US08362140B2

公开(公告)日：2013-01-29

申请号：US12922849

申请日：2009-03-12

申请人： Kazuhiro Fujimaki ,  Hiromi Kanda ,  Koichi Sugihara ,  Shigekazu Suzuki

发明人： Kazuhiro Fujimaki ,  Hiromi Kanda ,  Koichi Sugihara ,  Shigekazu Suzuki

IPC分类号： G02B1/04 ,  C08L33/14 ,  C09K19/04 ,  C08F2/46

CPC分类号： C08F265/04 ,  C08F290/00 ,  C08L51/003 ,  C09B67/0069 ,  C09D17/002 ,  C09D17/003 ,  G02B5/223 ,  Y10T428/105 ,  Y10T428/24802 ,  C08L2666/02

摘要： A pigment-dispersed composition includes (a) a high-molecular compound containing at least one kind of repeating unit selected from repeating units each represented by the following Formula (I) or (II), (b) a pigment, and (c) an organic solvent, wherein, in Formulae (I) and (II), R1 to R6 each represent a hydrogen atom or another group; X1 and X2 each represent —CO—, —C(═O)O—, —CONH—, —OC(═O)—, or a phenylene group; L1 and L2 each represent a single bond or a divalent organic linking group; A1 and A2 each represent a monovalent organic group; m and n each represent an integer of from 2 to 8; and p and q each represent an integer of from 1 to 100. Also disclosed is a pigment-dispersed composition containing (A) a graft high-molecular polymer in which acrylic acid is copolymerized at a proportion of from 5% by mass to 30% by mass in the main chain thereof, (B) a pigment, and (C) an organic solvent.

摘要翻译： 颜料分散组合物包含（a）含有选自由下式（I）或（II）表示的重复单元，（b）颜料）中的至少一种重复单元的高分子化合物，（c） 有机溶剂，其中，在式（I）和（II）中，R 1至R 6各自表示氢原子或另一基团; X1和X2各自表示-CO-，-C（= O）O-，-CONH-，-OC（= O） - 或亚苯基; L1和L2各自表示单键或二价有机连接基团; A1和A2各自表示一价有机基团; m和n各自表示2至8的整数; 并且p和q各自表示1〜100的整数。还公开了含有（A）接枝高分子聚合物的颜料分散组合物，其中丙烯酸以5质量％至30重量％的比例共聚， ，（B）颜料和（C）有机溶剂。

公开(公告)号：US08343708B2

公开(公告)日：2013-01-01

申请号：US13228836

申请日：2011-09-09

申请人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

发明人： Toshiaki Fukuhara ,  Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A positive photosensitive composition includes: (A) a resin that has an acid decomposable repeating unit of formula (I) and increases its solubility in an alkali developer by action of an acid; (B) a compound that generates an acid upon irradiation; (C) a resin that has: a fluorine atom and/or a silicon atom; and a group selected from groups (x) to (z); and (D) a solvent: (x) an alkali soluble group, (y) a group which decomposes by action of an alkali developer and increases a solubility of the resin (C) in an alkali developer, and (z) a group which decomposes by action of an acid, wherein, Xa1 represents hydrogen, alkyl, cyano or halogen, Ry1 to Ry3 each independently represents alkyl or cycloalkyl, and at least two of Ry1 to Ry3 may be coupled to form a ring, and Z represents a divalent linking group.

摘要翻译： 正型光敏组合物包括：（A）具有式（I）的酸可分解重复单元并通过酸的作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）照射时产生酸的化合物; （C）具有氟原子和/或硅原子的树脂; 和选自（x）〜（z）组的基团; 和（D）溶剂：（x）碱溶性基团，（y）通过碱显影剂的作用分解并增加树脂（C）在碱性显影剂中的溶解度的基团，和（z） 通过酸的作用分解，其中，Xa1表示氢，烷基，氰基或卤素，Ry1至Ry3各自独立地表示烷基或环烷基，并且Ry1至Ry3中的至少两个可以偶合形成环，Z表示二价 连接组。

公开(公告)号：US20110076622A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：US12917953

申请日：2010-11-02

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/108

摘要： A positive resist composition for immersion exposure comprises: (A) a resin containing at least one repeating unit having a fluorine atom and increasing a solubility of the resin in an alkali developer by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation.

摘要翻译： 用于浸渍曝光的正型抗蚀剂组合物包括：（A）含有至少一个具有氟原子的重复单元的树脂，并通过酸的作用增加树脂在碱性显影剂中的溶解度; 和（B）能够在用光化射线和辐射之一照射时能够产生酸的化合物。

公开(公告)号：US07611820B2

公开(公告)日：2009-11-03

申请号：US11519966

申请日：2006-09-13

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： A positive resist composition comprises: (A) a resin capable of increasing its solubility in an alkali developer by action of an acid and not containing a silicon atom; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation, (C) a silicon atom-containing resin having at least one group selected from groups (X) to (Z), (X) an alkali-soluble group, (Y) a group capable of decomposing by action of an alkali developer to increase the solubility of resin (C) in an alkali developer, (Z) a group capable of decomposing by action of an acid to increase the solubility of resin (C) in an alkali developer; and (D) a solvent.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含：（A）能够通过酸而不含硅原子增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（C）具有至少一个选自（X）〜（Z）的基团的含硅原子的树脂，（X）碱溶性 （Y）能够通过碱显影剂的作用分解以提高树脂（C）在碱显影剂中的溶解度的基团，（Z）能够通过酸的作用分解的基团以增加树脂的溶解度（ C）在碱性显影剂中; 和（D）溶剂。

公开(公告)号：US20070059639A1

公开(公告)日：2007-03-15

申请号：US11519966

申请日：2006-09-13

申请人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

发明人： Hiromi Kanda ,  Shinichi Kanna ,  Haruki Inabe

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114

摘要： A positive resist composition comprises: (A) a resin capable of increasing its solubility in an alkali developer by action of an acid and not containing a silicon atom; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation, (C) a silicon atom-containing resin having at least one group selected from groups (X) to (Z), (X) an alkali-soluble group, (Y) a group capable of decomposing by action of an alkali developer to increase the solubility of resin (C) in an alkali developer, (Z) a group capable of decomposing by action of an acid to increase the solubility of resin (C) in an alkali developer; and (D) a solvent.

摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包含：（A）能够通过酸而不含硅原子增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，（C）具有至少一个选自（X）〜（Z）的基团的含硅原子的树脂，（X）碱溶性 （Y）能够通过碱显影剂的作用分解以提高树脂（C）在碱显影剂中的溶解度的基团，（Z）能够通过酸的作用分解的基团以增加树脂的溶解度（ C）在碱性显影剂中; 和（D）溶剂。

公开(公告)号：US20050277059A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US11151319

申请日：2005-06-14

申请人： Hiromi Kanda

发明人： Hiromi Kanda

IPC分类号： G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11

摘要： A protective film-forming composition for immersion exposure comprises a water-insoluble and alkali-soluble resin comprising a repeating unit derived from a monomer having an acid dissociation constant pKa of 8 or more.

摘要翻译： 用于浸渍曝光的保护膜形成组合物包括水不溶性和碱溶性树脂，其包含衍生自酸解离常数pKa为8以上的单体的重复单元。

公开(公告)号：US20050255414A1

公开(公告)日：2005-11-17

申请号：US11129488

申请日：2005-05-16

申请人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

发明人： Haruki Inabe ,  Shinichi Kanna ,  Hiromi Kanda

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70341

摘要： A pattern forming method includes (a) a step of forming a resist film on a substrate, (b) a pre-wet step of spreading a pre-wet solution on the resist film and after a fixed time, removing the pre-wet solution, and (c) a step of subjecting the resist film on the substrate to exposure through an immersion liquid.

摘要翻译： 图案形成方法包括（a）在基板上形成抗蚀剂膜的步骤，（b）将预湿溶液铺展在抗蚀剂膜上的预湿步骤，并且在固定时间之后，除去预湿溶液 ，和（c）使基板上的抗蚀剂膜经过浸没液体曝光的步骤。