公开(公告)号：US20150241771A1

公开(公告)日：2015-08-27

申请号：US14625954

申请日：2015-02-19

Applicant: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.

Inventor： Suk-Koo HONG ,  Jong-Chan LEE ,  Su-Jee KWON ,  Dong-Gyun KIM ,  Joon-Je LEE ,  Hyung-Rae LEE

IPC: G03F7/038

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/38

Abstract: A photoresist composition includes a photosensitive copolymer having a repeating unit from a vinyl sulfone monomer, and a solvent.

Abstract translation: 光致抗蚀剂组合物包括具有乙烯基砜单体的重复单元的光敏共聚物和溶剂。