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公开(公告)号：CN105229814B
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201480029787.2
申请日：2014-05-22
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： H01L51/0043 , C08F220/14 , C08F220/20 , H01L51/0035 , H01L51/004 , H01L51/0508 , H01L51/0545 , H01L51/0566
摘要： 本发明的课题在于提供一种不会使有机薄膜晶体管的迁移率大幅下降而提高有机薄膜晶体管的绝缘可靠性的有机半导体组合物、使用这种有机半导体组合物来制作的有机薄膜晶体管、以及使用上述有机薄膜晶体管的电子纸及显示装置。本发明的有机半导体组合物含有机半导体材料(A)及包含下述通式(B)所表示的重复单元的高分子化合物(B)。
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公开(公告)号：CN104870493A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201380067453.X
申请日：2013-12-16
申请人： 群荣化学工业株式会社
CPC分类号： C08F212/08 , C08F8/00 , C08F8/02 , C08F8/12 , C08F8/28 , C08F12/24 , C08F2800/20 , C09D125/18 , G03F7/038 , C08F12/22 , C08F112/14 , C08F212/14
摘要： 一种固化性树脂，其包含下述通式(1)所示的、被烷氧基甲基取代的羟基苯乙烯重复单元，其中，Ra表示氢原子或甲基，Rb表示碳原子数1～4的烷基，m为1～3，n为1～3。
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公开(公告)号：CN102844339B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201180019109.4
申请日：2011-04-18
申请人： 日本曹达株式会社
CPC分类号： C08F12/22 , C08F12/24 , C08F212/14 , C08F297/023 , C08F297/044 , G03F7/0392
摘要： 本发明提供适于作为抗蚀剂材料等的窄分散的苯乙烯系星形聚合物。本发明的星形聚合物由下式A[C（Y）Xm]n（式中，A表示碳原子数4～15的多价脂肪族烃基，C表示碳原子，X表示苯乙烯系聚合物链，Y表示羟基或氧基，m表示1或2，n表示2～5中的任一整数。其中，Y为羟基时m为2，Y为氧基时m为1）表示。上述星形聚合物可以通过使具有阴离子末端的苯乙烯系聚合物与A（COOR）n（式中，R表示碳原子数1～8的烷基，A和n与上述式中的定义相同）所示的脂肪族羧酸酯反应来制造。
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公开(公告)号：CN102718902A
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201210061066.2
申请日：2012-03-09
申请人： 北京师范大学
CPC分类号： C08F8/34 , C08F8/12 , C08F12/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0758 , C08F12/24 , C08F12/22
摘要： 本发明涉及一种新型的基于聚对羟基苯乙烯(PHS)的化学增幅型单组份光致抗蚀剂材料及其合成方法，此聚对羟基苯乙烯的衍生物的部分苯环上含有光照产酸基团，部分酚羟基被可酸分解保护基保护起来。曝光时产酸基团产生强酸，在后烘条件下催化保护基团分解，释放出酚羟基，导致曝光部分碱溶性变大，可由稀碱水显影成像。因此可用作一种新颖的化学增幅型单组分抗蚀剂材料，可用于深紫外光刻、电子束光刻及其它下一代超大规模集成电路加工技术如极紫外光刻、X射线光刻等使用的化学增幅抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN104737077B
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201380051105.3
申请日：2013-10-01
申请人： AZ电子材料(卢森堡)有限公司
IPC分类号： G03F7/40 , C08F12/24 , C08F20/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/168 , C08F12/24 , C08F20/30 , C08F220/26 , C08F220/30 , C09D129/02 , C09D133/14 , C09D137/00 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/26 , G03F7/32 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/405 , H01L21/0274 , H01L21/0338
摘要： 本发明提供一种能够形成干式刻蚀耐性高的图案的精细图案形成用组合物、以及使用了上述精细图案形成用组合物的制造过程中的配管堵塞少的图案形成方法。一种精细图案形成用组合物以及使用了其的图案形成方法，该精细图案形成用组合物用于在使用化学放大型抗蚀剂组合物来形成负型抗蚀图案的方法中，通过使抗蚀图案变粗而使图案精细化，其含有聚合物和有机溶剂，该聚合物含有具有羟基芳基的重复单元，该有机溶剂不使上述负型抗蚀图案溶解。在图案形成方法中，通过利用同一涂布装置对抗蚀剂组合物和其精细图案形成用组合物进行涂布，从而可防止配管堵塞。
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公开(公告)号：CN108864341A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201710334491.7
申请日：2017-05-12
申请人： 湖北固润科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及一种式(I)的聚合物，其中Ra‑Rd、Ra0‑Rd0、Ra1‑Rd1、Ra2‑Rd2、n、n0、n1和n2如说明书中所定义。该聚合物当用作光刻胶的成膜树脂时具有紫外光透过性好、粘度大可形成厚膜、感光速度快、分辨率高等优点。本发明还涉及制备式(I)聚合物的方法，式(I)聚合物在光刻胶中作为成膜树脂的用途，以及包含式(I)聚合物作为成膜树脂的光刻胶。
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公开(公告)号：CN104870493B
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201380067453.X
申请日：2013-12-16
申请人： 群荣化学工业株式会社
CPC分类号： C08F212/08 , C08F8/00 , C08F8/02 , C08F8/12 , C08F8/28 , C08F12/24 , C08F2800/20 , C09D125/18 , G03F7/038 , C08F12/22 , C08F112/14 , C08F212/14
摘要： 一种固化性树脂，其包含下述通式(1)所示的、被烷氧基甲基取代的羟基苯乙烯重复单元，其中，Ra表示氢原子或甲基，Rb表示碳原子数1～4的烷基，m为1～3，n为1～3。
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公开(公告)号：CN106133613A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580016480.3
申请日：2015-02-25
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G03G9/09733 , G03G9/0806 , G03G9/081 , G03G9/0825 , G03G9/08795 , G03G9/08797 , G03G9/09708 , G03G9/0975 , G03G9/09783
摘要： 提供：一种调色剂，其带电性能不随着环境条件的波动而变化，并且当用于高速化单组分显影系统时，在高温高湿环境下打印大量复印件之后获得高度稳定的图像；和所述调色剂的制造方法。所述调色剂包括通过使树脂颗粒固着至各自包含粘结剂树脂、着色剂和脱模剂的调色剂基础颗粒的表面获得的调色剂颗粒，并且特征在于，所述树脂颗粒包含树脂A，所述树脂A具有离子性官能团并且具有7.0‑9.0的pKa(酸解离常数)。(在式(1)中，R1表示羟基、羧基、C1‑18烷基、或C1‑18烷氧基；R2表示氢原子、羟基、C1‑18烷基、或C1‑18烷氧基；g是1‑3的整数；并且h是0‑3的整数。当h是2或3时，h个R1基团可以相同或不同。)。
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