多支链高分子
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102775535B

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201210236774.5

    申请日:2004-11-25

    CPC classification number: C08F12/16 C08F4/06 C08G83/005

    Abstract: 本发明的目的在于提供支链末端容易修饰、支化系数高、而且分散窄的多支链高分子。通过采用具有2个或更多个聚合起始点和聚合性不饱和键的化合物,并采用使用了金属催化剂的活性自由基聚合法,可以制造具有用式(I)表示的重复单元的、分散窄、高支化系数的多支链高分子,所述式(I)为式(I)中,R1~R3各自独立,表示氢原子或烃基,R1和R3可以结合形成环。X表示3价或更高价的连结基团。Y表示在末端上可以具有卤素原子的官能团,a表示2或更大的整数,Y之间可以相同也可以不同。

    新型的多支链高分子
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102775535A

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN201210236774.5

    申请日:2004-11-25

    CPC classification number: C08F12/16 C08F4/06 C08G83/005

    Abstract: 本发明的目的在于提供支链末端容易修饰、支化系数高、而且分散窄的多支链高分子。通过采用具有2个或更多个聚合起始点和聚合性不饱和键的化合物,并采用使用了金属催化剂的活性自由基聚合法,可以制造具有用式(I)表示的重复单元的、分散窄、高支化系数的多支链高分子,所述式(I)为,式(I)中,R1~R3各自独立,表示氢原子或烃基,R1和R3可以结合形成环。X表示3价或更高价的连结基团。Y表示在末端上可以具有卤素原子的官能团,a表示2或更大的整数,Y之间可以相同也可以不同。

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