制备含锗红外玻璃材料的设备及其工艺方法

    公开(公告)号:CN101353220B

    公开(公告)日:2011-10-19

    申请号:CN200710119665.4

    申请日:2007-07-27

    CPC classification number: C03B5/08 C03B2201/78

    Abstract: 一种制备含锗红外玻璃材料的设备及其工艺方法。该设备包括有石英反应器、摇摆回转炉。石英反应器为由大小端组成的凸形的密闭容器。将原料密封在石英反应器内,固定在摇摆回转炉内,在摇摆回转炉内化合、冷却成型,再经过退火处理。该方法包括:组分配比混合、真空脱氧熔封、高温搅拌化合、冷却、淬冷、粗退火、精退火等步骤。其中,真空脱氧熔封时真空度低于10-3Pa;高温搅拌化合控制为850-950℃;冷却时降温速率控制为4-10℃/min;淬冷温度控为400-550℃;粗退火温度为250-350℃,降温速率为0.5-5℃/min;精退火温度为350-450℃,降温速率为0.01-1℃/min。有效地解决了熔体淬冷制备含锗红外玻璃工艺中红外吸收和光学质量均匀性问题。

    制备含锗红外玻璃材料的设备及其工艺方法

    公开(公告)号:CN101353220A

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200710119665.4

    申请日:2007-07-27

    CPC classification number: C03B5/08 C03B2201/78

    Abstract: 一种制备含锗红外玻璃材料的设备及其工艺方法。该设备包括有石英反应器、摇摆回转炉。石英反应器为由大小端组成的凸形的密闭容器。将原料密封在石英反应器内,固定在摇摆回转炉内,在摇摆回转炉内化合、冷却成型,再经过退火处理。该方法包括:组分配比混合、真空脱氧熔封、高温搅拌化合、冷却、淬冷、粗退火、精退火等步骤。其中,真空脱氧熔封时真空度低于10-3Pa;高温搅拌化合控制为850-950℃;冷却时降温速率控制为4-10℃/min;淬冷温度控为400-550℃;粗退火温度为250-350℃,降温速率为0.5-5℃/min;精退火温度为350-450℃,降温速率为0.01-1℃/min。有效地解决了熔体淬冷制备含锗红外玻璃工艺中红外吸收和光学质量均匀性问题。

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