牙科材料混合器
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108619928A

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201710166091.X

    申请日:2017-03-20

    Inventor: 严荣进 陈三贵

    CPC classification number: B01F5/0616 A61C19/005 B01F13/0022 B01F2215/0034

    Abstract: 本发明涉及牙科材料混合器,更具体地,本发明涉及一种用于静态混合器的混合元件(5),其包括多个旋扭节段(9),每个旋扭节段(9)都包括以拼合角度(α)交错形成一体的两块平板,多个旋扭节段(9)彼此顺序连接形成细长的混合结构(7),相邻的两个旋扭节段(9)围绕混合结构(7)的中心轴线相对于彼此旋转90度。本发明还涉及包括该混合元件(5)的静态混合器(4)。

    用于制造牙科技术中的全瓷嵌体、齿冠、齿桥、部分齿桥、用于植入物或上部结构支架的方法

    公开(公告)号:CN1288366A

    公开(公告)日:2001-03-21

    申请号:CN99802177.6

    申请日:1999-01-14

    Abstract: 本发明涉及一种通过制造支架,例如由氧化铝组成,制造齿冠等等的方法,其中在工作模的末端(3)上收缩配合一薄膜(6),薄膜(6)涂上釉子,在从末端上取下薄膜后釉子焙烧成一支架。为了加快这一方法和避免材料损失,末端(3)装在一可回转的轴(2)上。釉于用工具(5)涂覆。在涂覆釉子期间和/或之后用一吹风机(7)吹平。这种方法也可以在数控机床上进行,用数控机床接着还可以涂上镶装陶瓷。代替薄膜(6)可以涂上类似唇膏的分隔剂,它在超过45℃时熔化,如果放弃位置保留功能的话。本发明也发表无折皱地收缩配合薄膜(6)(的方法)。其次本发明指出,怎样在陶瓷炉本身内可以进行浸润,其中支架放在一吸收多余玻璃的底板上。此外本发明发表一种用于釉子的定量给料装置,用这种装置可以将釉于以均匀的成分定量施加在收缩配合的薄膜上。

    一种调拌刀
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107773322A

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201610709024.3

    申请日:2016-08-24

    Applicant: 张毓祺

    Inventor: 张毓祺

    CPC classification number: A61C19/005

    Abstract: 本发明涉及一种调拌刀,包括度量式调拌刀,其特征在于所述度量式调拌刀左部设置有调拌刀头,所述度量式调拌刀中部设置防滑纹,所述度量式调拌刀右侧设置挖药匙,所述度量式调拌刀右部设置刻量标记。本发明结构简易、设计合理,度量式调拌刀左部设置有调拌刀头,这样设置有利于更好的操作,为调拌带来快捷的工具。所述度量式调拌刀中部设置防滑纹,这样设置有利于防止打滑,增强握持感。所述度量式调拌刀右侧设置挖药匙,有利于更好的取药,减少浪费。所述度量式调拌刀右部设置刻量标记,这样设置有利于更加精确地取药。

    一种口腔材料调拌板
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107028675A

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201710149486.9

    申请日:2017-03-14

    Inventor: 胡菁颖 李莉

    CPC classification number: A61C19/005 A61C2201/00

    Abstract: 本发明公开了一种口腔材料调拌板,该口腔材料调拌板为邵氏硬度在40~80之间的医用硅橡胶板。本发明不仅软硬度适合进行材料调拌、耐用不易破碎,而且表面疏水性好,易于清洁灭菌消毒,不会对所调拌口腔材料的物理机械性能产生影响。

    用于制造全瓷牙齿部件的方法和装置

    公开(公告)号:CN1248657C

    公开(公告)日:2006-04-05

    申请号:CN99802177.6

    申请日:1999-01-14

    Abstract: 本发明涉及一种通过制造支架,例如由氧化铝组成,制造齿冠等等的方法,其中在工作模的末端(3)上收缩配合一薄膜(6),薄膜(6)涂上釉子,在从末端上取下薄膜后釉子焙烧成一支架。为了加快这一方法和避免材料损失,末端(3)装在一可回转的轴(2)上。釉子用工具(5)涂覆。在涂覆釉子期间和/或之后用一吹风机(7)吹平。这种方法也可以在数控机床上进行,用数控机床接着还可以涂上镶装陶瓷。代替薄膜(6)可以涂上类似唇膏的分隔剂,它在超过45℃时熔化,如果放弃位置保留功能的话。本发明也发表无折皱地收缩配合薄膜(6)(的方法)。其次本发明指出,怎样在陶瓷炉本身内可以进行浸润,其中支架放在一吸收多余玻璃的底板上。此外本发明发表一种用于釉子的定量给料装置,用这种装置可以将釉子以均匀的成分定量施加在收缩配合的薄膜上。

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