一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机及浸釉方法

    公开(公告)号:CN118809784A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202411132601.8

    申请日:2024-08-16

    发明人: 陈继锐

    IPC分类号: B28B11/04

    摘要: 本发明涉及陶瓷加工相关技术领域,具体是一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机及浸釉方法,包括机架及釉桶,还包括:横梁圆管,横梁圆管上形成有多个上釉位,需上釉的坯体底脚抵接于所述上釉位,且所述坯体的底部能够与所述横梁圆管的内侧空腔接触;活动安装架,转动安装有两个连接座,两个连接座分别与横梁圆管的两端固定,且连接座由安装在活动安装架上的转动驱动件驱动转动;贯穿其中一个连接座且一端伸入横梁圆管内的负压管,负压管的另一端连接负压机构;贯穿另一个连接座且一端伸入横梁圆管内的输釉管,输釉管的另一端连接供釉机构。有效的解决了人工手工上釉不均匀,厚薄不一致,流釉痕,效率低,夹具印,工人专业性等问题。