本发明涉及陶瓷加工相关技术领域，具体是一种负压吸附翻转式全方位均匀浸釉机及浸釉方法，包括机架及釉桶，还包括：横梁圆管，横梁圆管上形成有多个上釉位，需上釉的坯体底脚抵接于所述上釉位，且所述坯体的底部能够与所述横梁圆管的内侧空腔接触；活动安装架，转动安装有两个连接座，两个连接座分别与横梁圆管的两端固定，且连接座由安装在活动安装架上的转动驱动件驱动转动；贯穿其中一个连接座且一端伸入横梁圆管内的负压管，负压管的另一端连接负压机构；贯穿另一个连接座且一端伸入横梁圆管内的输釉管，输釉管的另一端连接供釉机构。有效的解决了人工手工上釉不均匀，厚薄不一致，流釉痕，效率低，夹具印，工人专业性等问题。