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公开(公告)号：CN114981341A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202080087660.1
申请日：2020-12-28
Inventor： 蒋匡镐 , 韩权炯 , 朴振佑 , 吉武笃史 , 塞巴斯蒂安·米尔茲里克
Abstract: 提供一种薄膜、薄膜的制造方法、包括所述薄膜的覆盖膜、多层电子设备等，所述薄膜包括弹性层，所述弹性层的由以下第1式表示的储能模量指数KSM为20Mpa至350Mpa；所述弹性层的雾度为3％以下，从而具有在大温度范围内实际储能模量变化小、弹性恢复力优秀等的优秀的机械性特性、低雾度等的优秀的光学性特性等。第1式：在所述第1式中，SMn为在n℃的温度下测量的储能模量。
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