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公开(公告)号：CN116997677A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202280020426.6
申请日：2022-01-19
申请人： PPG工业俄亥俄公司
IPC分类号： C23C22/57
摘要： 本文公开了一种用于处理镁或镁合金基材的系统，所述系统包括：第一预处理组合物，所述第一预处理组合物包括氟金属酸和基于所述第一预处理组合物的总重量的量为10ppm至500ppm的游离氟离子，并且pH为1.0至4.0；以及第二预处理组合物，所述第二预处理组合物包括镧系金属，所述第二预处理组合物基本上不含过氧化物。还公开了处理镁或镁合金基材的方法。还公开了经处理的镁和镁合金基材。
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公开(公告)号：CN117203290A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202280030710.1
申请日：2022-03-04
申请人： PPG工业俄亥俄公司
IPC分类号： C09D7/61
摘要： 公开了一种用于处理金属基材的密封组合物，其包括：聚烯烃组分；和胶体层状硅酸盐。还公开了一种用于处理金属基材的系统，其包括：清洁剂组合物；和/或用于处理所述基材的至少一部分的预处理组合物，所述预处理组合物包括IVB族金属；以及用于处理用所述清洁剂组合物和/或所述预处理组合物处理过的所述基材的至少一部分的密封组合物，所述密封组合物包括聚烯烃组分。还公开了一种处理基材的方法，其包括使所述基材表面的至少一部分与本文公开的任何组合物或本文公开的任何系统接触。还公开了一种处理基材的方法，其包括使电流在阴极与用作阳极的所述基材之间通过，所述阴极和阳极浸入包括聚烯烃组分的密封组合物中。还公开了一种基材，其包括用本文公开的任何组合物、本文公开的任何系统或本文公开的任何方法处理的表面。
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公开(公告)号：CN114502772A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080070858.9
申请日：2020-08-10
申请人： PPG工业俄亥俄公司
摘要： 本文公开了用于处理金属基材的系统和方法。所述系统包含包括氟金属酸和游离氟化物并且具有1.0至4.0的pH的第一预处理组合物和包括IVB族金属的第二预处理组合物或包括镧系金属和氧化剂的第三预处理。所述方法包括使所述基材的表面的至少一部分与所述第一预处理组合物接触和任选地使所述基材表面的至少一部分与所述第二预处理组合物或所述第三预处理组合物接触。还公开了用所述系统或方法中的一种处理的基材。还公开了包括双层的镁或镁合金基材，所述双层包括包括硅酮的第一层和包括氟化物的第二层。
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公开(公告)号：CN118591657A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202280088686.7
申请日：2022-11-07
申请人： PPG工业俄亥俄公司
摘要： 本文公开了一种预处理组合物，其包括镧系金属；氧化剂；以及氟金属酸、有机磷酸盐化合物、有机膦酸盐化合物或其组合。还公开了一种预处理组合物，其包括镧系金属；羧酸；以及基于所述预处理组合物的总重量，不大于70ppm的量的氧化剂。还公开了一种用于处理基材的系统，所述系统包括清洁组合物和本文所公开的预处理组合物中的一种预处理组合物。还公开了处理基材的方法，所述方法包括使所述基材的至少一部分与本文所公开的预处理组合物中的一种预处理组合物接触。还公开了基材，其包括在至少一部分上具有膜的表面，其中所述膜由本文所公开的预处理组合物中的一种预处理组合物形成。还公开了基材，所述基材用本文所述的系统或方法中的任何系统或方法处理。
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公开(公告)号：CN114502772B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202080070858.9
申请日：2020-08-10
申请人： PPG工业俄亥俄公司
摘要： 本文公开了用于处理金属基材的系统和方法。所述系统包含包括氟金属酸和游离氟化物并且具有1.0至4.0的pH的第一预处理组合物和包括IVB族金属的第二预处理组合物或包括镧系金属和氧化剂的第三预处理。所述方法包括使所述基材的表面的至少一部分与所述第一预处理组合物接触和任选地使所述基材表面的至少一部分与所述第二预处理组合物或所述第三预处理组合物接触。还公开了用所述系统或方法中的一种处理的基材。还公开了包括双层的镁或镁合金基材，所述双层包括包括硅酮的第一层和包括氟化物的第二层。
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公开(公告)号：CN114555863A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080071217.5
申请日：2020-08-10
申请人： PPG工业俄亥俄公司
摘要： 本文公开了用于处理镁或镁合金基材的体系和方法。所述体系包含：pH大于8.5的清洁组合物或溶剂；和包含有机磷酸酯化合物和/或有机膦酸酯化合物的预处理组合物。所述方法包括：使基材表面与清洁组合物或溶剂接触；以及使所述表面与预处理组合物接触。还公开了用体系之一或方法之一处理的基材。还公开了镁或镁合金基材，其中在空气/基材界面和空气/基材界面下方500nm之间，(a)存在氧和镁，总量至少为70原子％；(b)存在碳，含量不超过30原子％；和/或(c)存在氟化物，含量不超过8原子％，其中原子％通过XPS深度剖析来测量。
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