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公开(公告)号：CN101166633A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200680006666.1
申请日：2006-02-09
申请人： OVD基尼格拉姆股份公司
IPC分类号： B42D15/10
CPC分类号： B42D25/405 , B42D25/328 , Y10S359/90
摘要： 本发明涉及用于制造多层体(100)的方法，所述多层体(100)具有部分成形的第一层(3m)。其中设定，在所述方法中，将具有各个结构元件的大的深度－宽度比尤其是深度－宽度比＞0.3的第一凸纹结构成形到多层体(100)的复制层(3)的第一区域(5)中，并将第一层(3m)以恒定的表面密度涂布到复制层(3)上第一区域(5)和第二区域(4，6)中，在第二区域中第一凸纹结构不成形到复制层(3)中，并且根据第一凸纹结构部分去除第一层(3m)，以便第一层(3m)在第一区域(5)中去除但在第二区域(4、6)不去除，或在第二区域(4、6)中部分去除但在第一区域(5)中不去除。
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公开(公告)号：CN100491134C
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200680006666.1
申请日：2006-02-09
申请人： OVD基尼格拉姆股份公司
IPC分类号： B42D15/10
CPC分类号： B42D25/405 , B42D25/328 , Y10S359/90
摘要： 本发明涉及用于制造多层体(100)的方法，所述多层体(100)具有部分成形的第一层(3m)。其中设定，在所述方法中，将具有各个结构元件的大的深度-宽度比尤其是深度-宽度比＞0.3的第一凸纹结构成形到多层体(100)的复制层(3)的第一区域(5)中，并将第一层(3m)以恒定的表面密度涂布到复制层(3)上第一区域(5)和第二区域(4，6)中，在第二区域中第一凸纹结构不成形到复制层(3)中，并且根据第一凸纹结构部分去除第一层(3m)，以便第一层(3m)在第一区域(5)中去除但在第二区域(4、6)不去除，或在第二区域(4、6)中部分去除但在第一区域(5)中不去除。
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公开(公告)号：CN101115627A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200680004626.3
申请日：2006-02-09
申请人： OVD基尼格拉姆股份公司
CPC分类号： B32B27/08 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/41 , B42D25/42 , B42D2033/10 , B42D2033/24 , B44C1/14 , G03H1/02 , G03H1/0244 , G03H2001/0033 , G03H2001/188 , G03H2250/10
摘要： 本发明涉及具有部分成形的第一层(3m)的多层体(100)的制备方法以及根据所述方法制备的多层体。本方法特征在于在多层体的复制层(3)的第一区域中成形衍射性第一浮雕结构(4)，在该第一区域中和其中在复制层(3)中没有成形第一浮雕结构的第二区域中将第一层(3m)施加到复制层(3)上，将光敏层施加到第一层(3)上或将光敏性洗涤掩模(8)作为复制层施加到其上，透过第一层(3m)将该光敏层或洗涤掩模曝光以致由于第一和第二区域中的第一浮雕结构而引起该光敏层或洗涤掩模不同地曝光，和在第一区域而不是第二区域中或在第二区域而不是第一区域中使用经曝光的光敏层或洗涤掩模作为掩模层将第一层(3m)除去。
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公开(公告)号：CN101115627B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200680004626.3
申请日：2006-02-09
申请人： OVD基尼格拉姆股份公司
CPC分类号： B32B27/08 , B42D25/324 , B42D25/328 , B42D25/41 , B42D25/42 , B42D2033/10 , B42D2033/24 , B44C1/14 , G03H1/02 , G03H1/0244 , G03H2001/0033 , G03H2001/188 , G03H2250/10
摘要： 本发明涉及具有部分成形的第一层(3m)的多层体(100)的制备方法以及根据所述方法制备的多层体。本方法特征在于在多层体的复制层(3)的第一区域中成形衍射性第一浮雕结构(4)，在该第一区域中和其中在复制层(3)中没有成形第一浮雕结构的第二区域中将第一层(3m)施加到复制层(3)上，将光敏层施加到第一层(3)上或将光敏性洗涤掩模(8)作为复制层施加到其上，透过第一层(3m)将该光敏层或洗涤掩模曝光以致由于第一和第二区域中的第一浮雕结构而引起该光敏层或洗涤掩模不同地曝光，和在第一区域而不是第二区域中或在第二区域而不是第一区域中使用经曝光的光敏层或洗涤掩模作为掩模层将第一层(3m)除去。
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