公开(公告)号：CN100437220C

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200510006211.7

申请日：2005-01-21

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 山中昭浩 ,  松岛昌良 ,  清水茂夫

IPC: G02F1/13

Abstract: 本发明提供装置构成及控制方法简单且价格低廉的微小图案修正装置。该微小图案修正装置，将被修正对象玻璃基板(8)搭载于玻璃平台(9)的表面，在玻璃平台(9)的背面上形成反射膜(10)，并且，将环状照明器(3)配设于观察光学系统(2)的物镜(11)的周围。自照明器(3)射出的环状光线，由反射膜(10)反射，透过玻璃平台(9)及被修正对象玻璃基板(8)的被观察部射入物镜(11)。因此，不需要在玻璃平台(9)的下方设置光源移动机构。

公开(公告)号：CN100524587C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200310103675.0

申请日：2003-11-03

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 矢田雄司 ,  清水茂夫 ,  德永宽哲 ,  藤川芳夫

IPC: H01J9/50

CPC classification number: Y02W30/828

Abstract: 本发明涉及一种平面基板的微细图形缺陷修正装置，具有：修补膏充填机构(50)、膏剂烧固机构(60)、机械切削整形机构(70)、垂直方向移动机构(80)，以及使搭载有上述机构的头部和平面基板向与平面基板平行的平面方向相对移动、并进行定位的水平方向定位机构(40)，搭载在头部上的各机构与垂直方向移动机构联动，垂直方向移动机构包含切入基准构件，机械切削整形机构包含微细图形上面规定剖面过剩材料加工工具，与微细图形上面接触的微细图形上面规定剖面过剩材料加工工具的推压力由多个微细图形上面分散地阻挡。通过对各机构合理有效地组合进行缺陷修正，能进行质量稳定的缺陷修正并提高微细图形的修正效率。

公开(公告)号：CN101140364A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200710148861.4

申请日：2007-09-04

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 小池孝志 ,  清水茂夫

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1362 ,  H01J9/02 ,  H01J9/50

CPC classification number: Y02W30/828

Abstract: 本发明提供一种可用10μm左右的细线来修正断线缺陷部等、且缺陷部周围的污染小的图案修正方法。在所述图案修正方法中，在膜(3)的表面上照射激光来形成通孔(3a)，使通孔(3a)的膜(3)表面侧的开口部与缺陷部(2a)空开规定间隙(G)地对置，在包括通孔(3a)在内的规定范围内将膜(3)推压在基板(1)上并通过通孔(3a)在缺陷部上涂敷修正浆液(12)，以膜(3)的恢复力使膜(3)从基板(1)上剥离。因此，可抑制修正浆液(12)因毛细管现象而流入膜(3)与基板(1)之间。

公开(公告)号：CN1645189A

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN200510006211.7

申请日：2005-01-21

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 山中昭浩 ,  松岛昌良 ,  清水茂夫

IPC: G02F1/13

Abstract: 本发明提供装置构成及控制方法简单且价格低廉的微小图案修正装置。该微小图案修正装置，将被修正对象玻璃基板(8)搭载于玻璃平台(9)的表面，在玻璃平台(9)的背面上形成反射膜(10)，并且，将环状照明器(3)配设于观察光学系统(2)的物镜(11)的周围。自照明器(3)射出的环状光线，由反射膜(10)反射，透过玻璃平台(9)及被修正对象玻璃基板(8)的被观察部射入物镜(11)。因此，不需要在玻璃平台(9)的下方设置光源移动机构。

公开(公告)号：CN1523631A

公开(公告)日：2004-08-25

申请号：CN200310103675.0

申请日：2003-11-03

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 矢田雄司 ,  清水茂夫 ,  德永宽哲 ,  藤川芳夫

IPC: H01J9/50

CPC classification number: Y02W30/828

Abstract: 本发明，是在设有微细图形(凸肋)的平面基板上的缺陷部中充填修补膏剂并烧固、对多余的溢出膏剂、附着在凸肋附着缺陷部的多余的凸肋成形材料等的凸肋规定剖面溢出材料进行整形加工的缺陷修正方法和装置，其具有修补膏充填机构(50)、膏剂烧固机构(60)、机械切削整形机构(70)、向与所述平面基板垂直的方向移动的垂直方向移动机构(80)、搭载所述充填机构、所述膏剂烧固机构和所述切削整形机构的头部、和向与所述平面基板平行的平面方向相对地移动的水平方向定位机构(40)，搭载在头部上的各机构与所述垂直方向移动机构联动。通过对各机构合理、有效地组合进行缺陷修正，能进行质量稳定的缺陷修正、并提高微细图形的修正效率。

公开(公告)号：CN103962275B

公开(公告)日：2018-03-02

申请号：CN201410045271.9

申请日：2014-01-30

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 清水茂夫

IPC: B05C5/00 ,  B05D1/30 ,  G02F1/13

Abstract: 一种涂布单元，能准确地将液状材料涂布于较大面积的被涂布区域，且涂布作业的效率较好。该涂布单元(2)将多根涂布针(3)的基端(3b)固定于针座构件(19)的针支承面(19a)，并与被涂布区域的形状相对应地排列多根涂布针(3)的前端(3a)。通过调节涂布针的形状、尺寸及排列的间距，能以期望的膜厚、较少的涂布次数准确地将修正墨水(11)涂布成被涂布区域的形状。

公开(公告)号：CN103962275A

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201410045271.9

申请日：2014-01-30

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 清水茂夫

IPC: B05C5/00 ,  B05D1/30 ,  G02F1/13

Abstract: 一种涂布单元，能准确地将液状材料涂布于较大面积的被涂布区域，且涂布作业的效率较好。该涂布单元(2)将多根涂布针(3)的基端(3b)固定于针座构件(19)的针支承面(19a)，并与被涂布区域的形状相对应地排列多根涂布针(3)的前端(3a)。通过调节涂布针的形状、尺寸及排列的间距，能以期望的膜厚、较少的涂布次数准确地将修正墨水(11)涂布成被涂布区域的形状。

公开(公告)号：CN101140364B

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN200710148861.4

申请日：2007-09-04

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 小池孝志 ,  清水茂夫

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1362 ,  H01J9/02 ,  H01J9/50

CPC classification number: Y02W30/828

Abstract: 本发明提供一种可用10μm左右的细线来修正断线缺陷部等、且缺陷部周围的污染小的图案修正方法。在所述图案修正方法中，在膜(3)的表面上照射激光来形成通孔(3a)，使通孔(3a)的膜(3)表面侧的开口部与缺陷部(2a)空开规定间隙(G)地对置，在包括通孔(3a)在内的规定范围内将膜(3)推压在基板(1)上并通过通孔(3a)在缺陷部上涂敷修正浆液(12)，以膜(3)的恢复力使膜(3)从基板(1)上剥离。因此，可抑制修正浆液(12)因毛细管现象而流入膜(3)与基板(1)之间。

公开(公告)号：CN101738754A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200910208352.5

申请日：2009-11-04

Applicant: NTN株式会社

Inventor： 清水茂夫

IPC: G02F1/13

Abstract: 一种图案修正方法及图案修正装置，能抑制修正液向缺陷部的周围溢出，可使涂敷于缺陷部的修正液的厚度均匀。本发明的图案修正方法中，在向液晶滤色片基板(1)的像素(6)的白色缺陷(6a)涂敷修正墨水(7)后，为使修正墨水(7)的厚度均匀，向修正墨水(7)喷出含有溶剂(16)蒸汽的气体，降低修正墨水(7)的粘度。因此，能抑制涂敷于白色缺陷(6a)的修正墨水(7)向周围溢出。