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公开(公告)号：CN100447640C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200610136505.6
申请日：2006-10-24
Applicant: NEC液晶技术株式会社
Inventor： 杉本光弘
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/1341 , G02F2202/023
Abstract: 通过使用具有至少UV固化特性的密封元件连接对向基板和TFT基板来获得的LCD器件。密封元件包括UV固化树脂和分别形成在分散于UV固化树脂中的间隔器表面上的高折射率层，每个间隔器表面都具有高于UV固化树脂的折射率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1955822A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200610136505.6
申请日：2006-10-24
Applicant: NEC液晶技术株式会社
Inventor： 杉本光弘
IPC: G02F1/1339 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/1341 , G02F2202/023
Abstract: 通过使用具有至少UV固化特性的密封元件连接对向基板和TFT基板来获得的LCD器件。密封元件包括UV固化树脂和分别形成在分散于UV固化树脂中的间隔器表面上的高折射率层，每个间隔器表面都具有高于UV固化树脂的折射率。
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公开(公告)号：CN101126878A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200710142628.5
申请日：2007-08-20
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1362 , G02F1/1337 , G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/134363 , G02F1/13378 , G02F2001/133765
Abstract: 一种LCD面板，包括LC层、有源矩阵基板，包括用于施加横向电场到LC层的电极层、以及与该有源矩阵基板相对的反基板，其间插入LC层11。该有源矩阵基板包括在接触LC层11的表面中形成的第一定向膜，该第一定向膜通过研磨技术形成，以及包括在反基板13上的接触LC层11的表面中形成的第二定向膜35，该第二定向膜35通过粒子束照射技术形成。
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公开(公告)号：CN101285968A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810091792.2
申请日：2008-04-14
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法。在将取向材料涂敷到形成液晶面板的CF基板和TFT基板的表面以形成取向膜中，形成取向膜以至少覆盖其中以矩阵方式排列像素的显示区，而在前述取向膜外侧的区域中，例如在介于显示区和被密封材料包围的密封区之间的区域中，形成具有多孔膜结构的多孔取向膜，该多孔取向膜具有比前述取向膜更高的杂质吸附性质，由此在显示区外侧的区域中形成的多孔取向膜可以有效率地吸附污染物，比如由密封材料产生的残留杂质离子和密封材料的未固化组分，以防止污染物渗透到显示区中并且被固定在其中。
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公开(公告)号：CN101271213A
公开(公告)日：2008-09-24
申请号：CN200810086263.3
申请日：2008-03-24
Applicant: NEC液晶技术株式会社
CPC classification number: C09K19/3003 , C09K2019/0492
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置(LCD)，所述液晶显示装置是通过滴注和基板组装方法制备的有源矩阵寻址LCD，并且防止滴落痕迹的产生，并且具有优良的残留图像特性。通过将酸性化合物(例如酚衍生物412)加入到液晶组合物中以调节介电常数，从而提高图残留图像特性。通过将可以与酸性化合物形成氢键的化合物(例如烷氧基化合物413)加入到液晶组合物中，以当将LC组合物滴落在基板上时，防止酸性化合物与水409形成氢键，从而防止滴落痕迹的产生。在逐行模式中，酚化合物的含量为0.00010N以上，并且烷氧基化合物的含量为0.265mol/l以下，并且相对于所述酚化合物为10当量以上。在隔行模式中，酚化合物的含量为0.00100N以上，并且烷氧基化合物的含量为1.324mol/l，并且相对于所述酚化合物为150当量以上。
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公开(公告)号：CN101187762A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200710193670.X
申请日：2007-11-23
Applicant: NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1333 , G02F1/133 , G09G3/36
CPC classification number: G02F1/13378 , G02F1/133723 , G02F1/134363
Abstract: 本发明的制造方法涉及下述一种液晶显示设备的制造方法，该液晶显示设备包括阵列基板、与阵列基板相对的相对基板、以及夹在该对基板之间的液晶层。该方法包括对形成在该对基板的至少一个基板的与液晶接触的表面上的取向膜进行取向处理的步骤。在能量强度在最后的辐射步骤中设为最低的同时，在多个步骤中通过给取向膜辐射具有各向异性的能量，如离子束来进行所述取向处理。
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