-
公开(公告)号：CN107208279B
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201680000623.6
申请日：2016-05-31
Applicant: MEC股份有限公司
Abstract: 本发明是一种铜的蚀刻液，包含酸、以及选自由脂肪族无环化合物、脂肪族杂环化合物及芳香族杂环化合物所组成的群组中的1种以上的化合物；所述脂肪族无环化合物是碳数2至10的饱和脂肪族无环化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子；所述脂肪族杂环化合物是包含五至七元环的化合物(B)，所述五至七元环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子；所述芳香族杂环化合物是包含六元芳香杂环的化合物(C)，所述六元芳香杂环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子。本发明提供一种蚀刻液及其补给液、以及铜布线的形成方法，本发明的铜的蚀刻液能够在不降低铜布线的直线性(铜布线顶部的布线宽度(W2))的情况下抑制侧面蚀刻，并且能够抑制铜布线底部的布线宽度(W1)的不均。
-
公开(公告)号：CN107208279A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680000623.6
申请日：2016-05-31
Applicant: MEC股份有限公司
CPC classification number: C23F1/18 , C09K13/06 , H05K3/067 , H05K2203/0789
Abstract: 本发明是一种铜的蚀刻液，包含酸、以及选自由脂肪族无环化合物、脂肪族杂环化合物及芳香族杂环化合物所组成的群组中的1种以上的化合物；所述脂肪族无环化合物是碳数2至10的饱和脂肪族无环化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子；所述脂肪族杂环化合物是包含五至七元环的化合物(B)，所述五至七元环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子；所述芳香族杂环化合物是包含六元芳香杂环的化合物(C)，所述六元芳香杂环具有1个以上的氮作为构成环的杂原子。本发明提供一种蚀刻液及其补给液、以及铜布线的形成方法，本发明的铜的蚀刻液能够在不降低铜布线的直线性(铜布线顶部的布线宽度(W2))的情况下抑制侧面蚀刻，并且能够抑制铜布线底部的布线宽度(W1)的不均。
-
公开(公告)号：CN110546304B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201880026350.1
申请日：2018-03-02
Applicant: MEC股份有限公司
Abstract: 本发明的覆膜形成用组成物是包含有：芳香族化合物，是在一分子中具有胺基以及芳香环；以及硫化合物(pKa为－1.9以下的硫的含氧酸以及其盐除外)。覆膜形成用组成物的pH优选为4至10。硫化合物优选为在溶液中经电离而作为阴离子存在，尤其优选为硫代硫酸盐以及硫氰酸盐。通过使覆膜形成用组成物接触金属构件的表面，而在金属构件的表面形成有覆膜，获得表面处理金属构件。
-
公开(公告)号：CN110546304A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880026350.1
申请日：2018-03-02
Applicant: MEC股份有限公司
Abstract: 本发明的覆膜形成用组成物是包含有：芳香族化合物，是在一分子中具有胺基以及芳香环；以及硫化合物(pKa为－1.9以下的硫的含氧酸以及其盐除外)。覆膜形成用组成物的pH优选为4至10。硫化合物优选为在溶液中经电离而作为阴离子存在，尤其优选为硫代硫酸盐以及硫氰酸盐。通过使覆膜形成用组成物接触金属构件的表面，而在金属构件的表面形成有覆膜，获得表面处理金属构件。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.022 seconds)
