掩模和包括该掩模的滤光器制造设备

    公开(公告)号:CN103703418B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201280036229.X

    申请日:2012-07-23

    CPC classification number: G03F1/38 G03F1/50 G03F7/24

    Abstract: 提供一种掩模以及包括该掩模的滤光器制造设备。一种用于在基膜中形成图案的卷对卷工艺的掩模,所述基膜被配置成沿弯曲表面移动,所述掩模包括掩模体,所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面。所述掩模体的所述弯曲表面被设置成与所述辊的弯曲表面相距预定距离。所述掩模和滤光器制造设备能够实现在所述基膜上形成均匀图案,以提高产品的质量,并精确地获得所述基膜的性质。

Patent Agency Ranking