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公开(公告)号:CN102596802A
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201080048287.5
申请日:2010-08-26
申请人: LG伊诺特有限公司
IPC分类号: C01B31/36 , C04B35/565
CPC分类号: B82Y30/00 , C01B32/956 , C04B35/573 , C04B35/6261 , C04B35/6267 , C04B35/6268 , C04B35/63404 , C04B35/63408 , C04B35/63416 , C04B35/63424 , C04B35/63456 , C04B35/63496 , C04B2235/3418 , C04B2235/424 , C04B2235/48 , C04B2235/5288 , C04B2235/5436 , C04B2235/5454 , C04B2235/72
摘要: 本发明公开了一种高纯碳化硅粉体的制备方法和系统。即,本发明的高纯碳化硅粉体的制备方法包括:在混合器中制备由硅源和碳源组成的混合物的步骤;和通过在大于0.03托且等于和小于0.5托的真空度和在等于或大于1300℃且等于和小于1900℃的温度下加热所述混合物来合成碳化硅(SiC)粉体的步骤。