液晶元件的制造方法以及液晶取向剂

    公开(公告)号:CN110462502A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201880018513.1

    申请日:2018-05-07

    Inventor: 登政博

    Abstract: 本发明通过以下方法来制造液晶元件,所述方法包括:在第1基板及第2基板的各基板上涂布液晶取向剂的步骤;在涂布液晶取向剂后对第1基板及第2基板进行加热的步骤;以及在加热之后,将第1基板与第2基板以涂布有液晶取向剂的面相对的方式相向配置从而构筑液晶单元的步骤,且液晶取向剂含有具有通过加热而脱离的热脱离性基的化合物,在对基板进行加热的步骤中,实施对第1基板及第2基板中的一个基板,以较另一个基板更高的温度进行加热的高温加热处理。

    液晶元件的制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110462502B

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN201880018513.1

    申请日:2018-05-07

    Inventor: 登政博

    Abstract: 本发明涉及一种可在一个基板与另一个基板之间充分产生预倾角的差异的液晶元件的制造方法以及液晶取向剂。本发明通过以下方法来制造液晶元件,所述方法包括:在第1基板及第2基板的各基板上涂布液晶取向剂的步骤;在涂布液晶取向剂后对第1基板及第2基板进行加热的步骤;以及在加热之后,将第1基板与第2基板以涂布有液晶取向剂的面相对的方式相向配置从而构筑液晶单元的步骤,且液晶取向剂含有具有通过加热而脱离的热脱离性基的化合物,在对基板进行加热的步骤中,实施对第1基板及第2基板中的一个基板,以较另一个基板更高的温度进行加热的高温加热处理。

    液晶显示装置的制造方法、液晶显示装置及曝光装置

    公开(公告)号:CN119717337A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411120106.5

    申请日:2024-08-15

    Abstract: 一种液晶显示装置的制造方法、液晶显示装置及曝光装置,可通过比较简单的方法抑制因重复曝光引起的显示不均的产生。液晶显示装置的制造方法包括介隔光掩模对有机膜进行曝光的曝光工序:对有机膜的一部分进行一次曝光,对剩余的至少一部分进行重复曝光。光掩模(40)在与一次曝光对应的非重复区域(45)中具有狭缝(61a)及遮光部(62a),在与重复曝光对应的重复区域(46)中具有狭缝(61b)及遮光部(62b)。狭缝(61b)中的至少一部分的开口面积比狭缝(61a)的开口面积小。狭缝(61b)是相对于狭缝(61a)的开口面积而为75%以上且100%以下的第一狭缝,或者是超过0%且为25%以下的第二狭缝。

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