公开(公告)号：CN101959908A

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200980107243.2

申请日：2009-02-27

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 丸山研 ,  清水大辅

IPC: C08F20/26 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F220/28 ,  C08F212/14 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/283 ,  C08F220/18

Abstract: 本发明的目的是提供放射线敏感性组合物等，该组合物能够形成化学增幅型正型抗蚀剂膜，该膜能有效感应活性光线或放射线、纳米边缘粗糙度和灵敏度优异、可高精度且稳定地形成微细图案。本发明的组合物包含含酸解离性基团的聚合物(A)、和酸产生剂(B)，所述含酸解离性基团的聚合物(A)为碱不溶性或难溶性且通过酸的作用成为碱易溶性，作为聚合物(A)，包含含有式(1)的重复单元且以GPC测定的重均分子量为3000～100000的聚合物。式(1)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示取代或无取代的碳原子数为1～20的直链状或支链状的1价烷基、碳原子数为3～25的脂环式基团或碳原子数为6～22的芳基，X表示取代或无取代的亚甲基或碳原子数2～25的取代或无取代的直链状、支链状或脂环式的烃基。