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公开(公告)号:CN100428027C
公开(公告)日:2008-10-22
申请号:CN200510000493.X
申请日:2005-01-11
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/133 , G03F7/027
Abstract: 本发明涉及一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件。本发明提供的隔片形成用放射线敏感性树脂组合物即使是用实质上不含有350nm以下的波长的放射线曝光也可容易形成高分辨率、高灵敏度且图形形状、压缩强度、研磨耐性、与透明基板的密着性等诸性能优良的隔片。隔片形成用放射线敏感性树脂组合物,其特征是含有以下成份:[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐和、(a2)含有环氧基不饱和化合物和、(a3)其他的不饱和化合物的共聚物、[B]聚合性不饱和化合物、[C]双咪唑系化合物、[D]具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂,以及[E]具有二烷基氨基的化合物和/或[F]硫醇系化合物。
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公开(公告)号:CN102103328B
公开(公告)日:2014-11-12
申请号:CN201010591815.3
申请日:2010-12-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/033 , G03F7/075 , G03F7/004 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及着色组合物、滤色器和彩色液晶显示元件。本发明提供一种新型的着色组合物,其与透明导电膜、无机膜的密合性优异、并且即使以低曝光量也能够形成耐溶剂性优异的像素。所述着色组合物的特征在于,其含有(A)着色剂、(B)粘结剂树脂、(C)多官能性单体和(D)具有选自氢硫基和聚合性不饱和基团中的至少一种基团的笼型倍半硅氧烷。
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公开(公告)号:CN102103328A
公开(公告)日:2011-06-22
申请号:CN201010591815.3
申请日:2010-12-09
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/033 , G03F7/075 , G03F7/004 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及着色组合物、滤色器和彩色液晶显示元件。本发明提供一种新型的着色组合物,其与透明导电膜、无机膜的密合性优异、并且即使以低曝光量也能够形成耐溶剂性优异的像素。所述着色组合物的特征在于,其含有(A)着色剂、(B)粘结剂树脂、(C)多官能性单体和(D)具有选自氢硫基和聚合性不饱和基团中的至少一种基团的笼型倍半硅氧烷。
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公开(公告)号:CN101807002A
公开(公告)日:2010-08-18
申请号:CN201010112233.2
申请日:2010-02-08
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/031 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及着色放射线敏感性组合物、滤色器及彩色液晶显示元件。提供即使是低曝光量也能形成正锥形状且耐溶剂性优异的像素的新型着色放射线敏感性组合物。该着色放射线敏感性组合物的特征在于,含有(A)着色剂、(B)分散剂、(C)碱可溶性树脂、(D)多官能性单体及(E)光聚合引发剂,其中(B)分散剂和(D)多官能性单体中的至少一方具有己内酯结构,且(E)光聚合引发剂含有2-(4-甲基苄基)-2-(二甲氨基)-1-(4-吗啉基苯基)丁烷-1-酮。
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公开(公告)号:CN103499911A
公开(公告)日:2014-01-08
申请号:CN201310359293.8
申请日:2009-03-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/027 , G02B5/20 , G02F1/1333
CPC classification number: G03F7/0007 , G02B5/201 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种即使曝光量低也能形成正锥形适度且残膜率和密合性优异的像素的、用于形成着色层的放射线敏感性组合物。所述用于形成着色层的放射线敏感性组合物含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体和(D)光聚合引发剂,其特征在于,相对于100重量份(B)碱溶性树脂,该组合物含有100~300重量份的在分子内具有己内酯结构和2个以上聚合性不饱和键的化合物作为(C)多官能性单体。
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公开(公告)号:CN101960381A
公开(公告)日:2011-01-26
申请号:CN200980107242.8
申请日:2009-03-04
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0007 , G02B5/201 , G03F7/027
Abstract: 本发明提供一种即使曝光量低也能形成正锥形适度且残膜率和密合性优异的像素的、用于形成着色层的放射线敏感性组合物。所述用于形成着色层的放射线敏感性组合物含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)多官能性单体和(D)光聚合引发剂,其特征在于,相对于100重量份(B)碱溶性树脂,该组合物含有100~300重量份的在分子内具有己内酯结构和2个以上聚合性不饱和键的化合物作为(C)多官能性单体。
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公开(公告)号:CN1645220A
公开(公告)日:2005-07-27
申请号:CN200510000493.X
申请日:2005-01-11
Applicant: JSR株式会社
IPC: G02F1/1339 , G02F1/133
Abstract: 本发明涉及一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件。本发明提供的隔片形成用放射线敏感性树脂组合物即使是用实质上不含有350nm以下的波长的放射线曝光也可容易形成高分辨率、高灵敏度且图形形状、压缩强度、研磨耐性、与透明基板的密着性等诸性能优良的隔片。隔片形成用放射线敏感性树脂组合物,其特征是含有以下成分:[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐和、(a2)含有环氧基不饱和化合物和、(a3)其他的不饱和化合物的共聚物、[B]聚合性不饱和化合物、[C]双咪唑系化合物、[D]具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂,以及[E]具有二烷基氨基的化合物和/或[F]硫醇系化合物。
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