公开(公告)号：CN107636022A

公开(公告)日：2018-01-26

申请号：CN201680034558.9

申请日：2016-07-27

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 井上光宪 ,  足立拓海 ,  柳桥健司 ,  田中了司

IPC: C08C19/22 ,  B60C1/00 ,  C08F36/04 ,  C08K3/06 ,  C08K3/36 ,  C08L15/00

CPC classification number: C08C19/30 ,  B60C1/00 ,  B60C1/0016 ,  B60C1/0025 ,  C08C19/22 ,  C08C19/44 ,  C08F36/04 ,  C08F36/06 ,  C08F236/10 ,  C08K3/06 ,  C08K3/36 ,  C08L15/00

Abstract: 一种具有来自共轭二烯化合物的结构单元的共轭二烯系聚合物，使用在聚合物末端具有式(1)表示的基团的共轭二烯系聚合物。其中，式(1)中，R1为烃基，“＊”表示键合位点。

公开(公告)号：CN108473599B

公开(公告)日：2020-09-15

申请号：CN201780005925.7

申请日：2017-06-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 森下和哉 ,  井上光宪 ,  吉井大辅 ,  天野雄介

IPC: C08C19/25 ,  C08F4/44 ,  C08F4/50 ,  C08K3/36 ,  C08L23/26

Abstract: 本发明以尽量少的工序数得到门尼粘度高、形状稳定性良好、且体现优异的加工性和低放热性的改性共轭二烯系聚合物。通过使具有活性末端的共轭二烯系聚合物与化合物[M]反应的方法来制造改性共轭二烯系聚合物，上述具有活性末端的共轭二烯系聚合物是在包含碱金属化合物和碱土金属化合物中的至少一方的引发剂的存在下、将含有共轭二烯化合物的单体聚合而得到的，上述化合物[M]具有基团“－C(R1)＝N－A1”和基团“－N＝C(R1)－A1”(其中，R1为氢原子或者烃基，A1为具有烷氧基甲硅烷基的1价基团。)中的至少任一种基团合计2个以上。

公开(公告)号：CN108473599A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201780005925.7

申请日：2017-06-20

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 森下和哉 ,  井上光宪 ,  吉井大辅 ,  天野雄介

IPC: C08C19/25 ,  C08F4/44 ,  C08F4/50 ,  C08K3/36 ,  C08L23/26

Abstract: 本发明以尽量少的工序数得到门尼粘度高、形状稳定性良好、且体现优异的加工性和低放热性的改性共轭二烯系聚合物。通过使具有活性末端的共轭二烯系聚合物与化合物[M]反应的方法来制造改性共轭二烯系聚合物，上述具有活性末端的共轭二烯系聚合物是在包含碱金属化合物和碱土金属化合物中的至少一方的引发剂的存在下、将含有共轭二烯化合物的单体聚合而得到的，上述化合物[M]具有基团“－C(R1)＝N－A1”和基团“－N＝C(R1)－A1”(其中，R1为氢原子或者烃基，A1为具有烷氧基甲硅烷基的1价基团。)中的至少任一种基团合计2个以上。