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公开(公告)号:CN1799108B
公开(公告)日:2012-05-16
申请号:CN200480015233.3
申请日:2004-03-20
申请人: H.C.施塔克股份有限公司
CPC分类号: C01G49/0009 , C01P2006/40 , C08G61/124 , C08G61/126 , C08G73/0266 , C08G73/0611 , H01G11/48 , Y02E60/13
摘要: 本发明涉及用于产生特定氧化剂的方法,其,当与生产导电聚合物的前体混合时,在聚合过程中显示了长的加工时间。本发明也涉及通过所说的方法可获得的氧化剂,涉及包含这类特定(延迟)氧化剂的混合物和涉及它们对于产生固体电解质电容器和导电层的应用。通过用离子交换剂处理有机酸或包含有机基团的无机酸的金属盐产生氧化剂。
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公开(公告)号:CN101066973B
公开(公告)日:2012-04-25
申请号:CN200710109726.9
申请日:2007-04-30
申请人: H.C.施塔克股份有限公司
IPC分类号: C07D495/04
CPC分类号: C07D495/04
摘要: 本发明涉及一种稳定噻吩衍生物的方法,并且还涉及通过该方法获得的噻吩衍生物。
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公开(公告)号:CN1799108A
公开(公告)日:2006-07-05
申请号:CN200480015233.3
申请日:2004-03-20
申请人: H.C.施塔克股份有限公司
CPC分类号: C01G49/0009 , C01P2006/40 , C08G61/124 , C08G61/126 , C08G73/0266 , C08G73/0611 , H01G11/48 , Y02E60/13
摘要: 本发明涉及用于产生特定氧化剂的方法,其,当与生产导电聚合物的前体混合时,在聚合过程中显示了长的加工时间。本发明也涉及通过所说的方法可获得的氧化剂,涉及包含这类特定(延迟)氧化剂的混合物和涉及它们对于产生固体电解质电容器和导电层的应用。通过用离子交换剂处理有机酸或包含有机基团的无机酸的金属盐产生氧化剂。
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