公开(公告)号：CN102427916B

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201080017785.3

申请日：2010-03-31

申请人： EV集团有限责任公司

发明人： H.蒂芬伯克 ,  J.伯格拉夫 ,  S.帕格弗里德 ,  D.伯斯塔勒

IPC分类号： B25B11/00 ,  H01L21/683

CPC分类号： B25B11/005 ,  H01L21/6838

摘要： 用于保持平面的半导体衬底的保持设备具有：载体；固定或能固定在载体上的具有背离载体的保持侧的保持体；以及至少一个穿透保持体的低压通道，该低压通道具有保持侧上的吸收端，其中该保持侧具有由软材料构成的定义的吸收结构。

公开(公告)号：CN102427916A

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：CN201080017785.3

申请日：2010-03-31

申请人： EV集团有限责任公司

发明人： H.蒂芬伯克 ,  J.伯格拉夫 ,  S.帕格弗里德 ,  D.伯斯塔勒

IPC分类号： B25B11/00 ,  H01L21/683

CPC分类号： B25B11/005 ,  H01L21/6838

摘要： 用于保持平面的半导体衬底的保持设备具有：载体；固定或能固定在载体上的具有背离载体的保持侧的保持体；以及至少一个穿透保持体的低压通道，该低压通道具有保持侧上的吸收端，其中该保持侧具有由软材料构成的定义的吸收结构。