公开(公告)号：CN108137494A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680060518.1

申请日：2016-10-27

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 米田勇树 ,  坂田浩

IPC: C07C321/14 ,  C07C319/16 ,  C07C319/22 ,  C10M135/22 ,  C07B61/00 ,  C10N30/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使在低温环境下也能够在金属表面有效地形成金属硫化物的被膜、保存稳定性优异、适合作为极压添加剂的二烷基硫化物，提供一种二烷基硫化物，其由下述通式(1)(式中R1、R2分别表示烷基。n为整数。)表示，该通式(1)中的n为1的化合物的含有率相对于通式(1)所表示的化合物的总量为10.0质量％以下，该通式(1)中的n为2的化合物的含有率、n为3的化合物的含有率和n为4的化合物的含有率的合计相对于通式(1)所表示的化合物的总量为50.0～70.0质量％，且该通式(1)中的n为5的化合物的含有率、n为6的化合物的含有率、n为7的化合物的含有率和n为8的化合物的含有率的合计相对于通式(1)所表示的化合物的总量为30.0～40.0质量％。

公开(公告)号：CN108137494B

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201680060518.1

申请日：2016-10-27

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 米田勇树 ,  坂田浩

IPC: C07C321/14 ,  C07C319/16 ,  C07C319/22 ,  C10M135/22 ,  C07B61/00 ,  C10N30/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使在低温环境下也能够在金属表面有效地形成金属硫化物的被膜、保存稳定性优异、适合作为极压添加剂的二烷基硫化物，提供一种二烷基硫化物，其由下述通式(1)(式中R1、R2分别表示烷基。n为整数。)表示，该通式(1)中的n为1的化合物的含有率相对于通式(1)所表示的化合物的总量为10.0质量％以下，该通式(1)中的n为2的化合物的含有率、n为3的化合物的含有率和n为4的化合物的含有率的合计相对于通式(1)所表示的化合物的总量为50.0～70.0质量％，且该通式(1)中的n为5的化合物的含有率、n为6的化合物的含有率、n为7的化合物的含有率和n为8的化合物的含有率的合计相对于通式(1)所表示的化合物的总量为30.0～40.0质量％。