公开(公告)号：CN1259397A

公开(公告)日：2000-07-12

申请号：CN99121809.4

申请日：1999-08-29

Applicant: BASF公司

Inventor： G·迈尔 ,  E·施瓦布 ,  M·黑塞 ,  P·特吕本巴赫 ,  H·J·米勒

IPC: B01J23/66 ,  B01J23/72 ,  B01J23/89 ,  C07C5/03 ,  C07C5/05 ,  C10G45/32

CPC classification number: C10G45/34 ,  B01J21/04 ,  B01J23/40 ,  B01J23/66 ,  C07C5/03 ,  C07C5/05 ,  C07C5/09 ,  C07C2521/04 ,  C07C2523/50 ,  C07C2523/72

Abstract: 在催化剂上选择氢化烃流中不饱和化合物,催化剂在未用状态时,在X－射线衍射图案的反射显示相当于以下晶格平面间隔[in10－10m]:4.52,2.85,2.73,2.44,2.31,2.26,2.02,1.91，1.80,1.54,1.51,1.49,1.45和1.39,并有特定的相对强度。

公开(公告)号：CN1145525C

公开(公告)日：2004-04-14

申请号：CN99121809.4

申请日：1999-08-29

Applicant: BASF公司

Inventor： G·迈尔 ,  E·施瓦布 ,  M·黑塞 ,  P·特吕本巴赫 ,  H·-J·米勒

IPC: B01J23/44 ,  B01J23/50 ,  B01J37/08 ,  C07C5/05 ,  C10G45/32

CPC classification number: C10G45/34 ,  B01J21/04 ,  B01J23/40 ,  B01J23/66 ,  C07C5/03 ,  C07C5/05 ,  C07C5/09 ,  C07C2521/04 ,  C07C2523/50 ,  C07C2523/72

Abstract: 在催化剂上选择氢化烃流中不饱和化合物，催化剂在未用状态时，在X-射线衍射图案的反射显示相当于以下晶格平面间隔：[in 10-10m]：4.52，2.85，2.73，2.44，2.31，2.26，2.02，1.91，1.80，1.54，1.51，1.49，1.45和1.39，并有特定的相对强度。