公开(公告)号：CN1717626A

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN200380104283.4

申请日：2003-11-14

Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社

Inventor： 井川昭彦 ,  山本敦子

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G03F1/08

CPC classification number: G03F7/2024 ,  G03F7/0226

Abstract: 在对于光致抗蚀图案需要高耐热性的工艺中，如制备TFT活性基质基板工艺中，通过使用正型感光组合物可形成一种超高耐热性的正型图案。本发明的图案形成方法包括以下步骤：涂敷一种感光组合物到基板材料之上以形成感光层的步骤，该感光组合物含有(a)碱溶性树脂、(b)具有醌二叠氮基的感光剂、(c)光酸产生剂、(d)交联剂和(e)溶剂；接着透过掩模使基板曝光的步骤；通过显影除去曝光区域以形成正型图像的步骤；使该正型图像的整个区域曝光的步骤；和(如果需要)后烘焙处理。对于使用1，2－萘醌－4－磺酰化合物作为具有醌二叠氮基的感光剂的情形，以上成分(c)可以省略，这是由于该化合物还充当着成分(c)光酸产生剂的作用。